MP2307DN-LF-ZDC-DC電源管理芯片 全新 原裝現(xiàn)貨 深圳鑫意誠電子有限公司 聯(lián)系人:胡先生 聯(lián)系方式 座機(jī)0755-28186792 移動手機(jī):13380343102 或聯(lián)系24小時在線QQ: 350948484
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微電子裝備總體研究室主任胡松表示,設(shè)備采用的新型納米對準(zhǔn)技術(shù),成功將原光刻設(shè)備的對準(zhǔn)精度由亞微米量級提升至納米量級,是實(shí)現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。其應(yīng)用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題,為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障。設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微納流控芯片加工、微納光學(xué)元件、微納光柵、MEMS器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備。
華中科技大學(xué)國家光電實(shí)驗(yàn)室的甘棕松教授在國外攻讀博士學(xué)位期間,采用類似方法在光刻制造技術(shù)上取得進(jìn)展,成功突破光學(xué)衍射極限,首次在世界范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)記錄的單線9納米線寬,雙線間距低至約50納米的超分辨光刻。未來將這一技術(shù)工程化應(yīng)用到光刻機(jī)上,能夠突破光學(xué)衍射極限對投射電路尺寸的限制從而實(shí)現(xiàn)超分辨光刻,有望使國產(chǎn)集成電路光刻機(jī)擺脫一味采用更短波長光源的技術(shù)路線。
據(jù)悉中國研發(fā)的光刻機(jī)試驗(yàn)產(chǎn)品已經(jīng)接近光刻機(jī)業(yè)界龍頭老大荷蘭ASML,EUV光刻機(jī)量產(chǎn)型號已經(jīng)做到14nm水平,現(xiàn)在Intel、三星的14nm光刻機(jī)都是買自ASML。中國準(zhǔn)14nm光刻機(jī)雖然沒有定型生產(chǎn),但試驗(yàn)設(shè)備的研制成功也是一個巨大進(jìn)步,只要集中攻關(guān)也許很快我們也能研發(fā)出類似精度的光刻機(jī)。
操作系統(tǒng)和芯片是軍備創(chuàng)新升級的靈魂,發(fā)動機(jī)則是各種軍備的動力之源。中國發(fā)動機(jī)的整體性突破對于中國軍備升級當(dāng)然意義非凡