bychip可替代AO6601導(dǎo)讀
MOS管原理本文MOS管的原理說(shuō)明以 增強(qiáng)型NMOS 為例。為了理解 MOS管的基本原理,首先要知道更基礎(chǔ)的 N 型半導(dǎo)體 和 P 型半導(dǎo)體。了解MOS管的工作原理,能夠讓我們能更好的運(yùn)用MOS管,而不是死記怎么用。
基礎(chǔ)知識(shí)中 MOS 部分遲遲未整理,實(shí)際分享的電路中大部分常用電路都用到了MOS管, 今天勢(shì)必要來(lái)一篇文章,徹底掌握mos管!。
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這個(gè)簡(jiǎn)單點(diǎn),包括生產(chǎn)難度,實(shí)現(xiàn)成本,實(shí)現(xiàn)方式等等。為什么介紹MOS管的文章都以NMOS舉例?說(shuō)白了就是NMOS相對(duì) PMOS 來(lái)說(shuō):簡(jiǎn)單點(diǎn)。對(duì)于人類發(fā)展而言,肯定是從某個(gè)事物簡(jiǎn)單的的部分開(kāi)始深入研究發(fā)展,教學(xué)也是相同的道理,從某個(gè)簡(jiǎn)單部分開(kāi)始更能夠讓人入門了解一個(gè)事物,然后再步步深入。
MOS管導(dǎo)通條件:|Vgs| > |Vgs(th)|。MOS管的導(dǎo)通條件 MOS管的開(kāi)關(guān)條件: N溝道:導(dǎo)通時(shí) Vg> Vs,Vgs> Vgs(th)時(shí)導(dǎo)通; P溝道:導(dǎo)通時(shí) Vg< Vs,Vgs< Vgs(th)時(shí)導(dǎo)通。
MOS管全名為:金屬 (Metal)—氧化物 (Oxide)—半導(dǎo)體 (Semiconductor)場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
摻入的雜質(zhì)越多,多子(空穴)的濃度就越高。在P型半導(dǎo)體中,空穴為多子,自由電子為少子,主要靠空穴導(dǎo)電。P型半導(dǎo)體又稱空穴型半導(dǎo)體,是以帶正電的空穴導(dǎo)電為主的半導(dǎo)體。
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AM30N10-70D-T1-PF
2SK2415-Z-E1-AZ、2SK3065、2SK3105-T1B-A、2SK3484-Z-E1-AZ、2SK4033、AM2308N-T1-PF、AM2394NE、AM30N10-70D-T1-PF、AM4424N-T1-PF、AM4599C-T1-PF。
MOS管的基本原理是利用一個(gè)金屬柵極、氧化物和半導(dǎo)體組成的結(jié)構(gòu)來(lái)控制導(dǎo)體的電阻。在 MOS管中,半導(dǎo)體材料通常是硅。
AO4616、AO4724、AO4828、AO6601、AO6800、AO6800、AO7800、AOD240、AOD240、AOD403。
FDMC8878、FDN304PZ-NL、FDN340P-NL、FDS4559-NL、FDS4953-NL、FDS6875-NL、FDS8926A-NL、FDS8926A-NL、FDS9933-NL、FDS9936A-NL。
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如果GATE電壓超過(guò)了閾值電壓,在GATE電介質(zhì)下就出現(xiàn)了channel。Drain和backgate之間的PN結(jié)反向偏置,所以只有很小的電流從drain流向backgate。
正是當(dāng)MOS電容的GATE相對(duì)于backgate是負(fù)電壓時(shí)的情況。硅表層看上去更重的摻雜了,這個(gè)器件被認(rèn)為是處于accumulation狀態(tài)了。電場(chǎng)反轉(zhuǎn),往表面吸引空穴排斥電子。
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