磨片
發(fā)布時(shí)間:2015/10/24 19:24:26 訪問(wèn)次數(shù):928
半導(dǎo)體晶圓的表面要規(guī)則，MC9S12DP256CVPV且沒(méi)有切割損傷，并要完全平整。第一個(gè)要求來(lái)自于很小尺度制造器件的表面和次表面層。它們的尺度在0.5—2 ym之間。為了獲得半導(dǎo)體器件相對(duì)尺寸的概念，想象圖3. 23的剖面和房子一樣高，大概8英尺(2.4 m)，在該范圍內(nèi)，晶圓的工作層都要在頂部有1—2英寸（25 mm或50 mm）或更小的區(qū)域。
平整度是小尺寸圖案絕對(duì)必要的條件（見(jiàn)第1 1章）。先進(jìn)的光刻工藝把所需的圖案投影到晶圓表面，如果表面不平，投影將會(huì)扭曲，就像電影圖像在不平的銀幕上無(wú)法聚焦一樣。
平整和拋光的工藝分兩步：磨片和化學(xué)機(jī)械拋光（見(jiàn)圖3. 24）。磨片是一個(gè)傳統(tǒng)的磨料研磨r藝，精調(diào)到半導(dǎo)體使用的要求。磨片的主要目的是去除切片工藝殘留的表面損傷。
圖3. 23 MOS晶體管截面圖
半導(dǎo)體晶圓的表面要規(guī)則，MC9S12DP256CVPV且沒(méi)有切割損傷，并要完全平整。第一個(gè)要求來(lái)自于很小尺度制造器件的表面和次表面層。它們的尺度在0.5—2 ym之間。為了獲得半導(dǎo)體器件相對(duì)尺寸的概念，想象圖3. 23的剖面和房子一樣高，大概8英尺(2.4 m)，在該范圍內(nèi)，晶圓的工作層都要在頂部有1—2英寸（25 mm或50 mm）或更小的區(qū)域。
平整度是小尺寸圖案絕對(duì)必要的條件（見(jiàn)第1 1章）。先進(jìn)的光刻工藝把所需的圖案投影到晶圓表面，如果表面不平，投影將會(huì)扭曲，就像電影圖像在不平的銀幕上無(wú)法聚焦一樣。
平整和拋光的工藝分兩步：磨片和化學(xué)機(jī)械拋光（見(jiàn)圖3. 24）。磨片是一個(gè)傳統(tǒng)的磨料研磨r藝，精調(diào)到半導(dǎo)體使用的要求。磨片的主要目的是去除切片工藝殘留的表面損傷。
圖3. 23 MOS晶體管截面圖
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