(1)光源的實體模型(幾何造型)

    光源的實體模型又稱為幾何造型,它是系統(tǒng)大小、形狀、位置、方向、材料的幾何表示。HD74LS04P光源的實體模型可以是光學系統(tǒng)中純粹的發(fā)光部分,也可以是具有其他光學特性的參考面,如反射、折射、吸收等,即該實體模型可以簡單到一個點光源,也可以復雜到實際光源精確結(jié)構(gòu)表示,因此通常光源實體模型可以分為兩類:簡化模型和精確模型。光源的簡化模型都是實際光源物理構(gòu)造的幾何近似,這種近似可以是極端的,如點光源。無論近似的程度如何,簡化模型都缺少實際光源的空間延展,而保留這些光源幾何細節(jié)的模型就是精確模型。光源的精確模型的建立也可以根據(jù)實際光學分析、評價方法的需要去除一些實際光源具有的幾何部分。

   (2)光源的發(fā)光特性

   光源的發(fā)光特性是指在光源的實體模型上設(shè)定的發(fā)光性質(zhì)。實體模型中不同組成部分的發(fā)光性質(zhì)可以不相同,這主要體現(xiàn)在不同組成部分出射光線的出射點、光通量和方向不同,例如可以在實體模型中設(shè)定一個發(fā)光面,從該面出射的光線可以是均勻出射,即光強

恒定;也可以是光線沿不同角度出射的光通量不同,即光強沿角度分布。另一種設(shè)定光源發(fā)光特性的方法是直接測量。美國Radiallt Imaging公司的測量方法在國際上處于領(lǐng)先水平,該方法是將待測光源放置于一個可沿任意方向旋轉(zhuǎn)角度的支架上,在光源所在空間的整個立體角內(nèi)用CCD攝像機拍攝光源的圖像,經(jīng)過計算機的處理后這一系列圖像就構(gòu)成了該光源在不同角度的發(fā)光分布,因而就可以根據(jù)這些發(fā)光特性數(shù)據(jù)在所要構(gòu)造的光學系統(tǒng)的光學模型中直接進行導入,繼而追跡光線。這種方法的精確度較高,適合大量光源的測定,但是整個測試系統(tǒng)的成本太高,不適合單個光源的建模。