光刻膠的選擇是一個(gè)復(fù)雜的過程
發(fā)布時(shí)間:2017/1/21 22:56:35 訪問次數(shù):2884
光刻膠的選擇是一個(gè)復(fù)雜的過程。主要的決定因素是晶圓表面對(duì)尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG膠首先必須具有產(chǎn)生那些所要求尺寸的能力。除了這些,還必須有在刻蝕過程中阻擋刻蝕的功能。在阻擋刻蝕的作用中,保持特定厚度的光刻膠層中一定不能存在針孔。另外,光刻膠必須能和晶圓表面很好地黏結(jié),否則刻蝕后的圖形就會(huì)發(fā)生扭曲,就像是如果在印刷過程中蠟紙沒有和表面貼緊的話,就會(huì)得到一個(gè)濺污的圖形。以上那些,連同工藝緯度和階梯覆蓋能力,都是光刻膠性能的要素。在光刻膠的選擇過程中,工藝師通常會(huì)在不同的性能因素中做出權(quán)衡。光刻膠是復(fù)雜化學(xué)工藝和設(shè)備系統(tǒng)的一部分,它們必須一起工作來產(chǎn)生好的圖形結(jié)果和可生產(chǎn)性,其設(shè)備必須使廠商擁有可接受的購買成本。
在光刻膠層能夠產(chǎn)生的最小圖形或其間距通常被作為對(duì)光刻膠分辨率(resolution capability)的參考,,在晶圓上最關(guān)鍵的器件和電路的尺寸( CD)是圖形化工藝的目標(biāo)。產(chǎn)生的圖形或其間距越小,說明分辨率越高。一種特定光刻膠的分辨率,實(shí)際是指特工藝的分辨率,它包括曝光源和顯影工藝。改變其他的工藝參數(shù)會(huì)改變光刻膠固有的分辨率?傮w來說,越細(xì)的線寬需要越薄的光刻膠膜來產(chǎn)生。然而,光刻膠膜必須要足夠厚來實(shí)現(xiàn)阻擋刻蝕的功能,并且保證不能有針孔。光刻膠的選擇是這兩個(gè)目標(biāo)的權(quán)衡。
用深寬比( aspect ratio)來衡量光刻膠與分辨率和光刻膠厚度
相關(guān)的特殊能力(見圖8. 13)。深寬比是光刻膠厚度與圖形開口尺寸的比值。隨著業(yè)界要求更小的圖形,圖形密度和形狀因子開始在光刻膠設(shè)計(jì)方面產(chǎn)生影響。對(duì)于一種給定的光刻膠,孤立圖形、水接觸孔和高密度圖形的區(qū)域,由于反射效果和化學(xué)反應(yīng)因素,整個(gè)曝光和顯影都不同。從而,有專門用于這些情況而設(shè)計(jì)的光刻膠。
正膠比負(fù)膠有更高的深寬比,也就是說,對(duì)于一個(gè)給定的圖
形尺寸開n,正膠的光刻膠層可以更厚。由于正膠的聚合物分子
尺寸更小,所以它可以分解出更小的圖形。其實(shí)這就有點(diǎn)像用更小的刷子來畫一條更細(xì)的線。對(duì)于先進(jìn)的高密度甚大規(guī)模集成電路,更合適選用正膠。
光刻膠的選擇是一個(gè)復(fù)雜的過程。主要的決定因素是晶圓表面對(duì)尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG膠首先必須具有產(chǎn)生那些所要求尺寸的能力。除了這些,還必須有在刻蝕過程中阻擋刻蝕的功能。在阻擋刻蝕的作用中,保持特定厚度的光刻膠層中一定不能存在針孔。另外,光刻膠必須能和晶圓表面很好地黏結(jié),否則刻蝕后的圖形就會(huì)發(fā)生扭曲,就像是如果在印刷過程中蠟紙沒有和表面貼緊的話,就會(huì)得到一個(gè)濺污的圖形。以上那些,連同工藝緯度和階梯覆蓋能力,都是光刻膠性能的要素。在光刻膠的選擇過程中,工藝師通常會(huì)在不同的性能因素中做出權(quán)衡。光刻膠是復(fù)雜化學(xué)工藝和設(shè)備系統(tǒng)的一部分,它們必須一起工作來產(chǎn)生好的圖形結(jié)果和可生產(chǎn)性,其設(shè)備必須使廠商擁有可接受的購買成本。
在光刻膠層能夠產(chǎn)生的最小圖形或其間距通常被作為對(duì)光刻膠分辨率(resolution capability)的參考,,在晶圓上最關(guān)鍵的器件和電路的尺寸( CD)是圖形化工藝的目標(biāo)。產(chǎn)生的圖形或其間距越小,說明分辨率越高。一種特定光刻膠的分辨率,實(shí)際是指特工藝的分辨率,它包括曝光源和顯影工藝。改變其他的工藝參數(shù)會(huì)改變光刻膠固有的分辨率?傮w來說,越細(xì)的線寬需要越薄的光刻膠膜來產(chǎn)生。然而,光刻膠膜必須要足夠厚來實(shí)現(xiàn)阻擋刻蝕的功能,并且保證不能有針孔。光刻膠的選擇是這兩個(gè)目標(biāo)的權(quán)衡。
用深寬比( aspect ratio)來衡量光刻膠與分辨率和光刻膠厚度
相關(guān)的特殊能力(見圖8. 13)。深寬比是光刻膠厚度與圖形開口尺寸的比值。隨著業(yè)界要求更小的圖形,圖形密度和形狀因子開始在光刻膠設(shè)計(jì)方面產(chǎn)生影響。對(duì)于一種給定的光刻膠,孤立圖形、水接觸孔和高密度圖形的區(qū)域,由于反射效果和化學(xué)反應(yīng)因素,整個(gè)曝光和顯影都不同。從而,有專門用于這些情況而設(shè)計(jì)的光刻膠。
正膠比負(fù)膠有更高的深寬比,也就是說,對(duì)于一個(gè)給定的圖
形尺寸開n,正膠的光刻膠層可以更厚。由于正膠的聚合物分子
尺寸更小,所以它可以分解出更小的圖形。其實(shí)這就有點(diǎn)像用更小的刷子來畫一條更細(xì)的線。對(duì)于先進(jìn)的高密度甚大規(guī)模集成電路,更合適選用正膠。
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