自從1958年9月12日杰克・基爾比(Jack s.Kilby)發(fā)明了世界第一塊集成電路以來(lái),集成電路已經(jīng)走過(guò)50多年的高速發(fā)展歷程,現(xiàn)在最小線寬已經(jīng)在20~30nΠ1之間,進(jìn)XC1765DPC20C入深亞微米范圍。這其中關(guān)鍵技術(shù)之一的光刻技術(shù)也從最初使用類(lèi)似照相設(shè)備中的放大鏡頭,到當(dāng)今的浸沒(méi)式1.35高數(shù)值孔徑,具備白動(dòng)控制和調(diào)整成像質(zhì)量、直徑達(dá)半米多、重達(dá)半噸的巨型鏡頭組。光刻的作用是將半導(dǎo)體電路的圖形逐層印制硅片上,官的思想來(lái)源于歷史悠久的印刷技術(shù),所不同的是印刷通過(guò)使用墨水在紙上產(chǎn)生光反射率的變化來(lái)記錄信息,而光刻則采用光勹光敏感物質(zhì)的光化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)比度的變化。

    印刷技術(shù)最早產(chǎn)生于中國(guó)漢代晚期。800多年后,經(jīng)由宋朝的畢異革命性的改良,將固定的雕版印刷改造成活字印刷后便高速發(fā)展「2J。現(xiàn)在又發(fā)展出了激光照排排版技術(shù)�，F(xiàn)在意義上的“光刻”(Photolithography)起始于1798年阿羅約・寨內(nèi)菲德勒(Alois senefedler)的嘗試。當(dāng)他試圖將自己的著作在德國(guó)慕尼黑出版時(shí)發(fā)現(xiàn),如果使用油性鉛筆將插圖畫(huà)在多孔的石灰石上,并且將沒(méi)有畫(huà)到的地方用水濕潤(rùn),由于油性墨水與水的互相排斥,墨水只會(huì)被粘在用鉛筆畫(huà)過(guò)的地方。這種技術(shù)被叫做LithQgraphy,或者在石頭上畫(huà)圖。Lithography是現(xiàn)代多熏套印的先導(dǎo)。