STAR模塊則可以完全解決這些局限性問題，它可提供一種將FEA分析數(shù)據(jù)結(jié)果直接集成到OpticStudio中進(jìn)行擬合的新功能，具有無與倫比的易用性和準(zhǔn)確性。這有助于更全面地研究激光加熱效應(yīng)引起的熱變形和結(jié)構(gòu)變形所帶來的影響。

結(jié)合Ansys Zemax光學(xué)工具套件，設(shè)計團(tuán)隊首次能夠通過將FEA數(shù)據(jù)無縫集成到其光學(xué)和光機(jī)設(shè)計工作流程中來了解以下系統(tǒng)情況：

設(shè)計和優(yōu)化大功率激光系統(tǒng)的光學(xué)元件

在CAD平臺中輕松共享光學(xué)設(shè)計并分析光機(jī)封裝的影響

與FEA軟件集成，以詳細(xì)分析評估結(jié)構(gòu)和熱效應(yīng)對光學(xué)性能的影響

分析光學(xué)和機(jī)械元件中的吸收功率

當(dāng)對象和測量元件的時間常數(shù)T較大，容量遲延大，純滯后r很小，微分控制是首選。工藝要求較高時，應(yīng)選用PID控制器或PD控制器。工藝要求不高時，可選用P控制器。(注：前面的說法是為了讓大家明白PID控制特性，現(xiàn)在的的PID控制器同時具有P、I、D三個功能，并沒有PI控制器或P控制器出售)

當(dāng)對象和測量元件的時間常數(shù)T較小，純滯后t較大，用微分控制不一定有作用。

當(dāng)對象的時間常數(shù)T較小，系統(tǒng)負(fù)荷變化較大時，為了消除干擾引起的余差，應(yīng)選用PI控制器，如流量控制系統(tǒng)。

當(dāng)對象的時間常數(shù)T較小，而負(fù)荷變化很快，這時用了微分控制和積分控制都容易引起振蕩，對控制質(zhì)量影響很大。如果對象的時間常數(shù)很小，采用反微分作用可能會有較好的效果。

當(dāng)對象的純滯后t很大，負(fù)荷變化也很大，簡單控制系統(tǒng)可能無法滿足要求，只能采用復(fù)雜控制系統(tǒng)，如串級控制來滿足工藝生產(chǎn)的要求。

為了解決工業(yè)系統(tǒng)中PID控制器由于系統(tǒng)時變而導(dǎo)致的所在控制器回路性能下降問題，PID可達(dá)性評估基準(zhǔn)的基礎(chǔ)上，提出了一種針對PID控制器進(jìn)行性能評估、優(yōu)化及監(jiān)控的方法，即：PID循環(huán)評估優(yōu)化算法。

該算法利用系統(tǒng)閉環(huán)輸入輸出數(shù)據(jù)進(jìn)行滑窗在線辨識，使用基于MVC(MinimumVariance Control)的PID最小方差可達(dá)性準(zhǔn)則對PID控制器性能進(jìn)行評估，并將計算最小方差意義下最優(yōu)PID控制器參數(shù);將理論最小方差與輸出方差相比，作為PID系統(tǒng)進(jìn)行在線優(yōu)化的啟停閾值。仿真已證明其有效性。

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