半導(dǎo)體工藝需要大量化學(xué)液體來刻蝕
發(fā)布時間:2015/10/23 20:30:44 訪問次數(shù):733
半導(dǎo)體工藝需要大量化學(xué)液體來刻蝕、UCC35701PW清洗、沖洗晶圓和其他部件;瘜W(xué)家們把這些化學(xué)品分為二!大類:
酸
堿
溶劑
酸和堿的不同之處在于液體中離子的不同。酸中含右氫離子( hydrogen ion),而堿中含有氫氧離子( hydroxide ion)。對水分子的研究解釋了不同之處。
水的化學(xué)式一般寫成H20,它也可寫成HOH。將其分解,我們發(fā)現(xiàn)水是由帶正電的氫離子(H+)和帶負(fù)電的氫氧離子(OH -)組成的。
當(dāng)水與其他元素混合,要么是氫離子,要么是氫氧離子與其他物質(zhì)結(jié)合(見圖2. 19)。含有氫離子的液體叫做酸( acid),含有氫氧離子的液體叫做堿(bases)。通常在家中就可找到酸和堿:檸檬汁和醋是酸,氨水和溶于水的蘇打是堿。
酸進(jìn)一步可分為兩類:有機(jī)酸和無機(jī)酸。有機(jī)酸含有碳?xì)浠衔锒鵁o機(jī)酸沒有;撬崾有機(jī)酸,氫氟酸是無機(jī)酸。
酸和堿的強(qiáng)度和反應(yīng)用pH值來衡量(見圖2.20),該值從0~14,7為中性點(diǎn)。水既不是酸又不是堿,所以其pH值為7。強(qiáng)酸如硫酸(H:SO。)的pH值較低,為0~3,強(qiáng)堿如氫氧化鈉( iNaOH)的pH值比7要高。
半導(dǎo)體工藝需要大量化學(xué)液體來刻蝕、UCC35701PW清洗、沖洗晶圓和其他部件;瘜W(xué)家們把這些化學(xué)品分為二!大類:
酸
堿
溶劑
酸和堿的不同之處在于液體中離子的不同。酸中含右氫離子( hydrogen ion),而堿中含有氫氧離子( hydroxide ion)。對水分子的研究解釋了不同之處。
水的化學(xué)式一般寫成H20,它也可寫成HOH。將其分解,我們發(fā)現(xiàn)水是由帶正電的氫離子(H+)和帶負(fù)電的氫氧離子(OH -)組成的。
當(dāng)水與其他元素混合,要么是氫離子,要么是氫氧離子與其他物質(zhì)結(jié)合(見圖2. 19)。含有氫離子的液體叫做酸( acid),含有氫氧離子的液體叫做堿(bases)。通常在家中就可找到酸和堿:檸檬汁和醋是酸,氨水和溶于水的蘇打是堿。
酸進(jìn)一步可分為兩類:有機(jī)酸和無機(jī)酸。有機(jī)酸含有碳?xì)浠衔锒鵁o機(jī)酸沒有。磺酸是有機(jī)酸,氫氟酸是無機(jī)酸。
酸和堿的強(qiáng)度和反應(yīng)用pH值來衡量(見圖2.20),該值從0~14,7為中性點(diǎn)。水既不是酸又不是堿,所以其pH值為7。強(qiáng)酸如硫酸(H:SO。)的pH值較低,為0~3,強(qiáng)堿如氫氧化鈉( iNaOH)的pH值比7要高。
上一篇:溶劑
熱門點(diǎn)擊
- 暗適應(yīng)和明適應(yīng)過程
- 低壓配電系統(tǒng)N線的電流
- 比較指令的組成格式
- 熱電偶緊靠著石英爐管和控制電源
- 表面張力引力是另外一個問題
- (DGT) 16位十六進(jìn)制數(shù)(digit)的
- 控制系統(tǒng)硬件設(shè)計
- 低壓執(zhí)行電器
- 邏輯運(yùn)算指令
- 電纜頭制作
推薦技術(shù)資料
- 單片機(jī)版光立方的制作
- N視頻: http://v.youku.comN_sh... [詳細(xì)]
- Nuclei lntellig
- RISC-V子系統(tǒng)模式技術(shù)結(jié)構(gòu)
- 物理量子比特量子芯片Willo
- MPS電源管理一站式解決方案詳情
- 薄緩沖層AlGaN/GaN外延
- 2024年全球第三代半導(dǎo)體行業(yè)十大事件
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究