硫酸：一種常見的清洗溶液是熱硫酸添加氧化劑。它也是一種通常的光刻膠去除劑（見第8章）． RT9166A-50GX在90℃~ 125℃的范圍中，碗酸是一種非常有效的清洗劑。在這樣的溫度下，它可以去除晶圓表面大多數(shù)無機殘留物和顆粒。添加到硫酸中的氧化劑用來去除含碳的殘留物，化學(xué)反應(yīng)將碳轉(zhuǎn)化成二氧化碳，后者以氣體的形式離開反應(yīng)槽：

   C+ 02 -bC02（氣體）

   通常使用的氧化劑是過氧化氫( H202)或臭氧(0，)．，為r清洗和剝離，臭氧也被直接用于去離子水中。

   硫酸和過氧化氨：硫酸和過氧化氫混合制成一種常見的清洗液，用于各個工藝過程之前，尤其是爐工藝之前晶圓的清洗。它也可用做光刻操作中光刻膠的去除劑。在業(yè)內(nèi)，這種配方有多種命名，包括C arro酸和Piranha刻蝕（Piranha是一種非洲的食人魚）。，后者說明r這種溶液的危險性和有效性。

   一種手動的方法是在盛有常溫的硫酸容器中加入30%（體積）的過氧化氫。在這一比例下，發(fā)生大量的放熱反應(yīng)，使容器的溫度迅速升到了110℃~ 130℃的范圍，，隨著時間的推移，反應(yīng)逐漸變慢，反應(yīng)池的溫度也降到有效范圍之內(nèi)。這時，往反應(yīng)池中添加額外的過氧化氫或者不再添加i，往反應(yīng)池中不斷添加最終會導(dǎo)致清洗效率降低。這是因為過氧化氫轉(zhuǎn)化水，從而使硫酸稀釋。

   在自動的系統(tǒng)中，硫酸被加熱到有效清洗的溫度范圍內(nèi)。在清洗每一批晶圓前，再加入少量(50~100 mL)酌過氧化氫。這種方法保證清潔池處于合理的溫度下，同時，由過氧化氫產(chǎn)生的水町通過氣化離開溶液�；诮�(jīng)濟和工藝控制因素的考慮，一般選用加熱硫酸這一方法。這種方法也使兩種化學(xué)物質(zhì)的混合比較容易自動實現(xiàn)。

   臭氧：氧化添加劑的作用是給溶液提供額外的氧。有些公司將臭氧(()，)的氣源直接通人硫酸的容器。臭氧和去離子水混合是一種去除輕微有機物污染的方法。典型的’1j藝是將1～2 ppm的臭氧通入去離子水中，在室溫下持續(xù)10分鐘34。