對于傳統(tǒng)的光學(xué)光刻，NCP305LSQ15T1使用一些技術(shù)從掩模版到晶圓改善圖形保真度。一個(gè)衍射問題發(fā)生在當(dāng)兩個(gè)掩模圖形非常接近時(shí)。在某一點(diǎn)，正常的衍射波開始接觸疊加，導(dǎo)致該區(qū)域光刻膠不能正常曝光。兩個(gè)衍射波混在一起是因?yàn)樗鼈兊南辔幌嗤Ｏ辔皇且粋�(gè)描述波的名詞，它與波峰、波谷的相對位置有關(guān)[見圖10. 17(a)]。在圖10. 17(a)中的波是同相的，而在圖10. 17(b)中的波是異相的．，一個(gè)解決衍射疊加的辦法是將其中一個(gè)透光部分用透明物質(zhì)覆蓋，而這一透明物質(zhì)可以改變波的相位，從而達(dá)到克服衍射疊加的目的[見圖10. 17(b)]，基于以上原理而產(chǎn)生的交互相移掩模版（或稱交互孔徑相移掩模版，AAPSM）就是將一層二氧化

硅膜淀積在掩模版／放大掩模版上，然后將其中一部分移去，形成交替圖形。圖形多為重復(fù)性陣列，比如存儲器產(chǎn)品，交替蓋住透光部分這一方法比較適用。

   另一種方法是相位移動涂層在掩模版／放大掩模版圖形邊緣的擴(kuò)展使用。這一工藝同樣要在掩模版上加涂二氧化硅層并完成其他所有掩模版制作工藝的步驟。這一方法有一些衍生方法，比如亞分辨率（圖形外延）相移掩模版和鑲邊相位移動掩模版（見圖10.18）．