光刻質(zhì)量控制
發(fā)布時間:2016/6/12 22:05:32 訪問次數(shù):1814
(1)光刻膠的質(zhì)量控制。光刻膠A3250_06的質(zhì)量控制主要體現(xiàn)在黏附性、膠膜厚度等方面。(2)對準和曝光的質(zhì)量控制。對準和曝光的質(zhì)量控制主要體現(xiàn)在光源的強度、光源的聚焦、圖形的分辨率和投影掩膜版的質(zhì)量控制上。(3)顯影檢查。顯影檢查是為了找出光刻膠中成形圖形的缺陷。繼續(xù)隨后的刻蝕或摻雜之前必須進行顯影檢查以去除有缺陷的晶圓。
(1)光刻膠的質(zhì)量控制。光刻膠A3250_06的質(zhì)量控制主要體現(xiàn)在黏附性、膠膜厚度等方面。(2)對準和曝光的質(zhì)量控制。對準和曝光的質(zhì)量控制主要體現(xiàn)在光源的強度、光源的聚焦、圖形的分辨率和投影掩膜版的質(zhì)量控制上。(3)顯影檢查。顯影檢查是為了找出光刻膠中成形圖形的缺陷。繼續(xù)隨后的刻蝕或摻雜之前必須進行顯影檢查以去除有缺陷的晶圓。
相關技術資料- 6-12光刻質(zhì)量控制
- 相關IC型號
- A3250_06
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