光刻膠的去除
發(fā)布時(shí)間:2016/6/12 22:03:48 訪問(wèn)次數(shù):2745
經(jīng)過(guò)腐蝕或離子注入之后,已經(jīng)不再需要光刻膠作為保護(hù)層,因此便可以將光刻膠從硅片的表面去除。A3245LUA-T膠的方法包括濕法去膠和干法去膠。對(duì)非金屬膜(如s⒑2、多晶硅、氮化硅)上的膠層一般用無(wú)機(jī)溶劑(如硫酸等)去膠,可使膠層氧化,溶于溶劑中。金屬膜(如鋁、鉻等)上的膠層一般用有機(jī)溶劑(如丙酮和芳香族的有機(jī)溶劑等)去膠,這些去膠劑對(duì)金屬無(wú)腐蝕作用。
干法去膠則用等離子體將光刻膠去除。如使用氧等離子體,硅片上的光刻膠通過(guò)氧等離子體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成氣態(tài)的Co、Co2和H20,可以由真空系統(tǒng)抽走。相對(duì)于濕法去膠,干法去膠的效果更好,但干法去膠存在反應(yīng)殘留物的玷污問(wèn)題,因此二者經(jīng)常搭配進(jìn)行,光刻工藝流程。
經(jīng)過(guò)腐蝕或離子注入之后,已經(jīng)不再需要光刻膠作為保護(hù)層,因此便可以將光刻膠從硅片的表面去除。A3245LUA-T膠的方法包括濕法去膠和干法去膠。對(duì)非金屬膜(如s⒑2、多晶硅、氮化硅)上的膠層一般用無(wú)機(jī)溶劑(如硫酸等)去膠,可使膠層氧化,溶于溶劑中。金屬膜(如鋁、鉻等)上的膠層一般用有機(jī)溶劑(如丙酮和芳香族的有機(jī)溶劑等)去膠,這些去膠劑對(duì)金屬無(wú)腐蝕作用。
干法去膠則用等離子體將光刻膠去除。如使用氧等離子體,硅片上的光刻膠通過(guò)氧等離子體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成氣態(tài)的Co、Co2和H20,可以由真空系統(tǒng)抽走。相對(duì)于濕法去膠,干法去膠的效果更好,但干法去膠存在反應(yīng)殘留物的玷污問(wèn)題,因此二者經(jīng)常搭配進(jìn)行,光刻工藝流程。
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