會使膜的電阻率增大,使Al氧化發(fā)霧
發(fā)布時間:2016/6/13 21:49:31 訪問次數(shù):479
生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生o2、N2及H2等殘余氣體,殘余氣體對膜的影響如下: HCF4052M013TR
(1)o,:會使膜的電阻率增大,使Al氧化發(fā)霧;
(2)N2:引起應力,產(chǎn)生龜裂和空洞,易產(chǎn)生電遷移;
(3)H2:易引起小丘。
具體改善的方法有:
(1)提高真空度;
(2)預除氣;
(3)提高氬氣的純度;
(4)使用抽速快的泵及冷阱;
(5)提高濺射速率
生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生o2、N2及H2等殘余氣體,殘余氣體對膜的影響如下: HCF4052M013TR
(1)o,:會使膜的電阻率增大,使Al氧化發(fā)霧;
(2)N2:引起應力,產(chǎn)生龜裂和空洞,易產(chǎn)生電遷移;
(3)H2:易引起小丘。
具體改善的方法有:
(1)提高真空度;
(2)預除氣;
(3)提高氬氣的純度;
(4)使用抽速快的泵及冷阱;
(5)提高濺射速率
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