倒裝芯片的實(shí)質(zhì)是在傳統(tǒng)正裝工藝的基礎(chǔ)上
發(fā)布時(shí)間:2016/8/5 20:30:02 訪問(wèn)次數(shù):1333
倒裝芯片的實(shí)質(zhì)是在傳統(tǒng)正裝工藝的基礎(chǔ)上,將芯片的出光區(qū)與電極區(qū)不設(shè)計(jì)在同一個(gè)平面,此時(shí)電極區(qū)面朝向封裝燈杯底部進(jìn)行貼裝,JCY0200出光區(qū)為藍(lán)寶石襯底面,如果對(duì)于薄膜倒裝芯片,則出光面為ll-GaN面。這也可以省掉焊線這一工序,但是對(duì)固晶這段工藝的精度要求相對(duì)較高。
倒裝芯片結(jié)構(gòu)與正裝芯片結(jié)構(gòu)的對(duì)比如圖⒋31所示。
為適應(yīng)LED芯片的應(yīng)用,倒裝芯片制造過(guò)程中的倒裝技術(shù)也在不斷進(jìn)化改善,芯片的電極結(jié)構(gòu)也有大幅度的變化,其關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)如下P1]:
①P,N Pad在爆點(diǎn)采用了大面積多層加厚金屬電極,簡(jiǎn)單來(lái)講芯片正面只可以看到兩大塊分割開(kāi)的P,N爆線用電極。
②采用了微電子制造領(lǐng)域中的雙層布線技術(shù)。
③雙層布線電極之間采用介質(zhì)隔離技術(shù)。
倒裝芯片的實(shí)質(zhì)是在傳統(tǒng)正裝工藝的基礎(chǔ)上,將芯片的出光區(qū)與電極區(qū)不設(shè)計(jì)在同一個(gè)平面,此時(shí)電極區(qū)面朝向封裝燈杯底部進(jìn)行貼裝,JCY0200出光區(qū)為藍(lán)寶石襯底面,如果對(duì)于薄膜倒裝芯片,則出光面為ll-GaN面。這也可以省掉焊線這一工序,但是對(duì)固晶這段工藝的精度要求相對(duì)較高。
倒裝芯片結(jié)構(gòu)與正裝芯片結(jié)構(gòu)的對(duì)比如圖⒋31所示。
為適應(yīng)LED芯片的應(yīng)用,倒裝芯片制造過(guò)程中的倒裝技術(shù)也在不斷進(jìn)化改善,芯片的電極結(jié)構(gòu)也有大幅度的變化,其關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)如下P1]:
①P,N Pad在爆點(diǎn)采用了大面積多層加厚金屬電極,簡(jiǎn)單來(lái)講芯片正面只可以看到兩大塊分割開(kāi)的P,N爆線用電極。
②采用了微電子制造領(lǐng)域中的雙層布線技術(shù)。
③雙層布線電極之間采用介質(zhì)隔離技術(shù)。
熱門(mén)點(diǎn)擊
- 纖鋅礦結(jié)構(gòu)GaN的晶體結(jié)構(gòu)
- 程序存儲(chǔ)器的幾個(gè)特殊單元
- 平衡pn結(jié)能帶結(jié)構(gòu)
- 中斷向量表
- C51函數(shù)定義
- 直流電源抗干擾措施
- 子程序調(diào)用有以下幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)
- BCD碼調(diào)整指令是一條專用的指令
- 透射電鏡截面和平面樣品制備的流程
- 光刻電極之后應(yīng)腐蝕去除GaAs層
推薦技術(shù)資料
- 驅(qū)動(dòng)板的原理分析
- 先來(lái)看看原理圖。圖8所示為底板及其驅(qū)動(dòng)示意圖,F(xiàn)M08... [詳細(xì)]
- 英特爾酷睿Ultra處理器驅(qū)動(dòng)
- 散熱片 Crucial P31
- 三星F-DVFS(全動(dòng)態(tài)電壓頻
- 業(yè)界首款12納米級(jí)LPDDR5X DRAM
- 移動(dòng)端NAND閃存解決方案ZUFS 4.0
- 48GB 16層HBM3E結(jié)構(gòu)
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動(dòng)IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計(jì)
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究