光刻膠會(huì)對(duì)許多形式的能量有反應(yīng)。這些形式的能量通常是指光能、熱能等，或者是指AD8052AR-REEL電磁光譜中具體的某一部分光[如紫外線( UV)、深紫外線(DUV)、I線光(I-Line)等]（見8. 11.2節(jié)），j在8.11節(jié)中，會(huì)對(duì)曝光能量有詳細(xì)的說明。有很多策略是專門用來實(shí)現(xiàn)小圖形曝光的（見8.5.8節(jié)）。一種是用更窄波（或單色波）作為曝光源。傳統(tǒng)的基于Novolak的正膠已經(jīng)被微調(diào)過可以用在I—1．ine曝光源卜。然而，在DUV曝光源上，這種光刻膠卻不能很好地F作。針對(duì)DUV曝光源，光刻膠生產(chǎn)商已經(jīng)開發(fā)了化學(xué)放大光刻膠(chemically amplif'iecl re-sist)�；瘜W(xué)放大的意思是光刻膠的化學(xué)反應(yīng)會(huì)通過化學(xué)催化劑而被加快．j用于X射線和電子束(e-beam)L的光刻膠是不同于傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠的聚合物。

   溶劑：光刻膠中容量最大的成分是溶劑。溶劑使光刻膠處于液態(tài)，并且使光刻膠能夠通過旋轉(zhuǎn)的方法涂在晶圓表面形成一個(gè)薄層。光刻膠是和涂料相類似的，包含染色劑，這種染色劑在適當(dāng)?shù)娜軇┲袝?huì)被溶解。溶劑用于負(fù)膠的溶劑是一種芬芳的二甲苯( xylene)。在IF膠中，溶劑是乙酸乙氧乙酯( ethoxyethyl  acetate)或者是二甲氧基乙醛(2-methoxyethyl)。

   光敏劑：光敏劑被加到光刻膠中用來限制反應(yīng)光的波譜范圍或者把反應(yīng)光限制到某一特定波長，、在負(fù)膠中，一種稱為bis-aryldiazide的混合物被加到聚合物中來提供光敏性㈠i。在正膠中，光敏劑是o-naphthaquinonediazide。

   添加劑：不同類型的添加劑和光刻膠混合在一起來達(dá)到特定的結(jié)果。一些負(fù)膠包含染色劑，它在光刻膠薄膜中用來吸收和控制光線。正膠可能會(huì)有化學(xué)的抗溶解泵統(tǒng)( dissolutioninhibitor system)。這些添加劑可以阻止光刻膠沒有被曝光的部分在顯影過程被溶解。