對(duì)生長(zhǎng)速率有影響的其他因素
發(fā)布時(shí)間:2017/5/9 21:48:47 訪問(wèn)次數(shù):1011
對(duì)生長(zhǎng)速率有影響的其他因素
氣相質(zhì)量傳遞過(guò)程的快慢還和外延反應(yīng)器結(jié)構(gòu)類型、氣體流速(流量)等因素有關(guān);而表LD1117SC-R面外延過(guò)程還和硅襯底晶向有關(guān),硅襯底晶向?qū)ν庋由L(zhǎng)速率也有一定的影響。因此,影響外延生長(zhǎng)速率的因素除了外延溫度、硅源種類和反應(yīng)劑濃度之外,主要還有外延反應(yīng)器結(jié)構(gòu)類型、氣體流速、襯底晶向等。
襯底晶向?qū)ν庋由L(zhǎng)速率的影響是因?yàn)椴煌婀璧墓矁r(jià)鍵密度不同,成鍵能力就存在差別。例如,(111)晶面是雙層密排面,兩層雙層密排面之間共價(jià)鍵密度低,成鍵能力差,外延層生長(zhǎng)速率就慢,而(110)晶面之間的共價(jià)鍵密度大,成鍵能力強(qiáng),外延層生長(zhǎng)速率就相對(duì)較快。
對(duì)生長(zhǎng)速率有影響的其他因素
氣相質(zhì)量傳遞過(guò)程的快慢還和外延反應(yīng)器結(jié)構(gòu)類型、氣體流速(流量)等因素有關(guān);而表LD1117SC-R面外延過(guò)程還和硅襯底晶向有關(guān),硅襯底晶向?qū)ν庋由L(zhǎng)速率也有一定的影響。因此,影響外延生長(zhǎng)速率的因素除了外延溫度、硅源種類和反應(yīng)劑濃度之外,主要還有外延反應(yīng)器結(jié)構(gòu)類型、氣體流速、襯底晶向等。
襯底晶向?qū)ν庋由L(zhǎng)速率的影響是因?yàn)椴煌婀璧墓矁r(jià)鍵密度不同,成鍵能力就存在差別。例如,(111)晶面是雙層密排面,兩層雙層密排面之間共價(jià)鍵密度低,成鍵能力差,外延層生長(zhǎng)速率就慢,而(110)晶面之間的共價(jià)鍵密度大,成鍵能力強(qiáng),外延層生長(zhǎng)速率就相對(duì)較快。
上一篇:反應(yīng)劑濃度對(duì)生長(zhǎng)速率的影響
上一篇:外延摻雜
熱門點(diǎn)擊
- 硅的幾種常用晶面上原子
- 硅晶體的不同晶面、晶向性質(zhì)有所差異,
- 二氧化硅的理化性質(zhì)及用途
- 光調(diào)制分為內(nèi)調(diào)制和外調(diào)制兩種
- 影響外延生長(zhǎng)速率的因素
- “踢出”與間隙機(jī)制擴(kuò)散
- 某開關(guān)電源的電源端子騷擾電壓整改案例
- 同一種光學(xué)介質(zhì)對(duì)不同頻率的光的折射率是不同的
- 彈道導(dǎo)彈的分類
- 暖層以上的大氣層稱為散逸層
推薦技術(shù)資料
- 新品4MP圖像傳感器̴
- 高性能SoC智能傳感芯片技術(shù)設(shè)
- 分立器件&無(wú)源元件選型參數(shù)技術(shù)
- SRAM存算一體芯片發(fā)展趨勢(shì)及市場(chǎng)應(yīng)用
- 大功率雙向 48 V-12 V DC/D C
- 單速率(Single Rate
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動(dòng)IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計(jì)
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究