外延層的質(zhì)量直接關(guān)系到制作在上面的各種元器件的性能。而外延過程中,外延層晶格是否完整, MAX1967EUB會存在哪些缺陷?外延層中摻人雜質(zhì)的類型和數(shù)量,即電阻率大小及分布,外延層厚度及其均勻性,這些都是外延層質(zhì)量評價的主要質(zhì)檢指標。通過外延生長時的原位監(jiān)測和生長完成之后對外延片的檢測可以得到上述主要質(zhì)檢指標。

   外延缺陷類型及分析檢測

   外延缺陷按其所在位置可以劃分為兩類:一類是顯露在外延層表面的缺陷,這類缺陷可以用肉眼 或者金相顯微系統(tǒng)觀察到,通常稱為表面缺陷,主要有云霧線繁陷 層鐨 點缺陷 角錐體 劃旗 狀表面、角錐體、劃痕、星狀體、麻坑等;另一類是存在于外延層內(nèi)部的晶格結(jié)構(gòu)缺陷,也就是體缺陷,主要有位錯和層錯。另外。還有些缺陷起源干外延層內(nèi)部,甚至是襯底內(nèi)部,如襯底中的線位錯,外延生長時一直延伸到外延層表面,這類缺陷很難說是屬于表面缺陷還是屬于內(nèi)部缺陷。