離子注入射程R、投影射程RP及工維分布
發(fā)布時(shí)間:2017/5/15 21:13:09 訪問(wèn)次數(shù):2843
設(shè)每相鄰兩次碰撞所經(jīng)歷的路程依次為J1、J2、'3…,如圖61(a)所示,則離子PA905C4R從進(jìn)人靶起到停止點(diǎn)所通過(guò)路徑的總距離R稱(chēng)為入射離子的射程(range):
R在人射方向上的投影稱(chēng)為投影射程JP(Pr向ected R⒛ge)。射程在垂直于人射方向的平面內(nèi)的投影長(zhǎng)度~,,稱(chēng)為射程的橫向分量。一個(gè)人射離子進(jìn)人靶后所經(jīng)歷的碰撞過(guò)程是一個(gè)隨機(jī)過(guò)程,因此,盡管入射離子及其能量都相同,但各個(gè)離子的射程和投影射程卻不一定相同。定義所有入射離子的投影射程的平均值為平均投影射程,以Rp表示,如圖62所示是離子注人射程R、投影射程RP及二維分布示意圖。
圖⒍2 離子注入射程R、投影射程RP及工維分布示意圖
在人射離子進(jìn)人靶時(shí),每個(gè)離子的射程是無(wú)規(guī)則的,但對(duì)于大量以相同能量人射的離子來(lái)說(shuō)仍然存在一定的統(tǒng)計(jì)規(guī)律性。在一定條件下,其射程和投影射程都具有確定的統(tǒng)計(jì)平均值。一些離子的碰撞次數(shù)小于平均值,所以離子停止在比RP更遠(yuǎn)處,而某些離子碰撞次數(shù)較多,那么它停止在比RP更近處。沿著投影射程離子濃度的統(tǒng)計(jì)波動(dòng)稱(chēng)為投影射程標(biāo)準(zhǔn)偏差巫P(Stragglillg)。離子在垂直人射方向的平面上也有散射,橫向離子濃度所形成的統(tǒng)計(jì)波動(dòng)稱(chēng)為橫向標(biāo)準(zhǔn)偏差A(yù)R(Trax/er⒃⒏mggling)。
設(shè)每相鄰兩次碰撞所經(jīng)歷的路程依次為J1、J2、'3…,如圖61(a)所示,則離子PA905C4R從進(jìn)人靶起到停止點(diǎn)所通過(guò)路徑的總距離R稱(chēng)為入射離子的射程(range):
R在人射方向上的投影稱(chēng)為投影射程JP(Pr向ected R⒛ge)。射程在垂直于人射方向的平面內(nèi)的投影長(zhǎng)度~,,稱(chēng)為射程的橫向分量。一個(gè)人射離子進(jìn)人靶后所經(jīng)歷的碰撞過(guò)程是一個(gè)隨機(jī)過(guò)程,因此,盡管入射離子及其能量都相同,但各個(gè)離子的射程和投影射程卻不一定相同。定義所有入射離子的投影射程的平均值為平均投影射程,以Rp表示,如圖62所示是離子注人射程R、投影射程RP及二維分布示意圖。
圖⒍2 離子注入射程R、投影射程RP及工維分布示意圖
在人射離子進(jìn)人靶時(shí),每個(gè)離子的射程是無(wú)規(guī)則的,但對(duì)于大量以相同能量人射的離子來(lái)說(shuō)仍然存在一定的統(tǒng)計(jì)規(guī)律性。在一定條件下,其射程和投影射程都具有確定的統(tǒng)計(jì)平均值。一些離子的碰撞次數(shù)小于平均值,所以離子停止在比RP更遠(yuǎn)處,而某些離子碰撞次數(shù)較多,那么它停止在比RP更近處。沿著投影射程離子濃度的統(tǒng)計(jì)波動(dòng)稱(chēng)為投影射程標(biāo)準(zhǔn)偏差巫P(Stragglillg)。離子在垂直人射方向的平面上也有散射,橫向離子濃度所形成的統(tǒng)計(jì)波動(dòng)稱(chēng)為橫向標(biāo)準(zhǔn)偏差A(yù)R(Trax/er⒃⒏mggling)。
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