解決曝光區(qū)高階套刻偏差需要調(diào)整鏡頭的像差和畸變
發(fā)布時(shí)間:2017/10/28 10:21:09 訪問次數(shù):740
解決曝光區(qū)高階套刻偏差需要調(diào)整鏡頭的像差和畸變。阿斯麥公司也推出“網(wǎng)格地圖一曝光區(qū)內(nèi)版”(ghd mapper il△tra field)。它通過調(diào)整鏡頭的畸變來去除二階(D2)、三階(D3)畸變。而且,當(dāng)鏡頭受熱(lens heating)時(shí), R0502053S會(huì)伴隨著二階、三階畸變。解決方法是對(duì)像差進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)量,然后使用鏡頭模型進(jìn)行計(jì)算,得出最佳鏡片空間位置組合。當(dāng)今的光刻機(jī)鏡頭大約有>70%的鏡片的空間位置,包括沿著對(duì)稱軸z縱向的和沿著水平方向XY的,都是可以自動(dòng)調(diào)節(jié)的;而縱向的鏡片,由于關(guān)系到很多重要的像差,如球差(spherictfll aberration)、像場(chǎng)彎曲(Ⅱeld curvaturc),由計(jì)算機(jī)做閉環(huán)控制的。
套刻一般通過光學(xué)位置對(duì)準(zhǔn)和測(cè)量的方法來實(shí)現(xiàn)。對(duì)準(zhǔn)分為通過透鏡的對(duì)準(zhǔn)(Through The Lens,TTL)和離軸對(duì)準(zhǔn)(()ff Axis,OA)。由于通過鏡頭的對(duì)準(zhǔn)需要在鏡頭的設(shè)計(jì)上不僅對(duì)曝光波長(zhǎng)(actinic wavelength)優(yōu)化,同時(shí)又要能夠照顧到對(duì)準(zhǔn)波長(zhǎng)(alignmellt Wavclength),造成對(duì)分辨率的損害,所以現(xiàn)代的光刻機(jī)都使用離軸對(duì)準(zhǔn)。離軸對(duì)準(zhǔn)一般通過使用與鏡頭中央位置定標(biāo)過的離軸空間像探測(cè)器。一般有明場(chǎng)(bright Ⅱeld)和暗場(chǎng)(dark field)探測(cè)兩種類型;同時(shí),又有直接成像型和掃描成像型。明場(chǎng)探測(cè)型的探測(cè)器是一架顯微鏡,通過對(duì)對(duì)準(zhǔn)記號(hào),如圖7.狃(a)、圖7.狃(b)所示,反射光的成像,并且照相,確定其在視場(chǎng)中的位置來確定對(duì)準(zhǔn)記號(hào)所在位置與設(shè)計(jì)位置間存在的偏差。暗場(chǎng)探測(cè)可以通過探測(cè)除去零級(jí)反射的衍射光的成像,并且照相來確定其所在位置。由于暗場(chǎng)探測(cè)除去了大量回射光(back reⅡecoon),它對(duì)背景上的光學(xué)噪聲表現(xiàn)得不敏感。如圖7.45所示,明場(chǎng)探測(cè)有時(shí)會(huì)遇到由于背景光學(xué)噪聲造成的對(duì)準(zhǔn)記號(hào)對(duì)比度很低的情況,而這種對(duì)比度變差到一定程度會(huì)對(duì)對(duì)準(zhǔn)的精度產(chǎn)生嚴(yán)重影響,如圖7,46所示。l。而暗場(chǎng)探測(cè)要好很多。
解決曝光區(qū)高階套刻偏差需要調(diào)整鏡頭的像差和畸變。阿斯麥公司也推出“網(wǎng)格地圖一曝光區(qū)內(nèi)版”(ghd mapper il△tra field)。它通過調(diào)整鏡頭的畸變來去除二階(D2)、三階(D3)畸變。而且,當(dāng)鏡頭受熱(lens heating)時(shí), R0502053S會(huì)伴隨著二階、三階畸變。解決方法是對(duì)像差進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)量,然后使用鏡頭模型進(jìn)行計(jì)算,得出最佳鏡片空間位置組合。當(dāng)今的光刻機(jī)鏡頭大約有>70%的鏡片的空間位置,包括沿著對(duì)稱軸z縱向的和沿著水平方向XY的,都是可以自動(dòng)調(diào)節(jié)的;而縱向的鏡片,由于關(guān)系到很多重要的像差,如球差(spherictfll aberration)、像場(chǎng)彎曲(Ⅱeld curvaturc),由計(jì)算機(jī)做閉環(huán)控制的。
套刻一般通過光學(xué)位置對(duì)準(zhǔn)和測(cè)量的方法來實(shí)現(xiàn)。對(duì)準(zhǔn)分為通過透鏡的對(duì)準(zhǔn)(Through The Lens,TTL)和離軸對(duì)準(zhǔn)(()ff Axis,OA)。由于通過鏡頭的對(duì)準(zhǔn)需要在鏡頭的設(shè)計(jì)上不僅對(duì)曝光波長(zhǎng)(actinic wavelength)優(yōu)化,同時(shí)又要能夠照顧到對(duì)準(zhǔn)波長(zhǎng)(alignmellt Wavclength),造成對(duì)分辨率的損害,所以現(xiàn)代的光刻機(jī)都使用離軸對(duì)準(zhǔn)。離軸對(duì)準(zhǔn)一般通過使用與鏡頭中央位置定標(biāo)過的離軸空間像探測(cè)器。一般有明場(chǎng)(bright Ⅱeld)和暗場(chǎng)(dark field)探測(cè)兩種類型;同時(shí),又有直接成像型和掃描成像型。明場(chǎng)探測(cè)型的探測(cè)器是一架顯微鏡,通過對(duì)對(duì)準(zhǔn)記號(hào),如圖7.狃(a)、圖7.狃(b)所示,反射光的成像,并且照相,確定其在視場(chǎng)中的位置來確定對(duì)準(zhǔn)記號(hào)所在位置與設(shè)計(jì)位置間存在的偏差。暗場(chǎng)探測(cè)可以通過探測(cè)除去零級(jí)反射的衍射光的成像,并且照相來確定其所在位置。由于暗場(chǎng)探測(cè)除去了大量回射光(back reⅡecoon),它對(duì)背景上的光學(xué)噪聲表現(xiàn)得不敏感。如圖7.45所示,明場(chǎng)探測(cè)有時(shí)會(huì)遇到由于背景光學(xué)噪聲造成的對(duì)準(zhǔn)記號(hào)對(duì)比度很低的情況,而這種對(duì)比度變差到一定程度會(huì)對(duì)對(duì)準(zhǔn)的精度產(chǎn)生嚴(yán)重影響,如圖7,46所示。l。而暗場(chǎng)探測(cè)要好很多。
熱門點(diǎn)擊
- sACVD填充對(duì)溝槽輪廓的要求
- 用三端式穩(wěn)壓器7809構(gòu)成的單電源電壓輸出串
- 助焊劑在焊接中的作用如下
- 光刻中使用抗反射層以及在各界面上光的反射
- 吸錫器主要用來配合電烙鐵進(jìn)行拆焊
- 金屬柵材料性能的要求
- JFET的特點(diǎn)
- 線性或非線性材料
- 螺管線圈
- 控制柜門上的過壓指示燈亮
推薦技術(shù)資料
- 按鈕與燈的互動(dòng)實(shí)例
- 現(xiàn)在趕快去看看這個(gè)目錄卞有什么。FGA15N120AN... [詳細(xì)]
- 全集成直接飛行時(shí)間(dToF)傳感器
- 2025年半導(dǎo)體市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)未
- GW2A系列FPGA芯片應(yīng)用參數(shù)
- DDR類儲(chǔ)存器接口解決方案
- 2.5G bps MIPI D
- 新一代 Arora-V系列FPGA產(chǎn)品詳情
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動(dòng)IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計(jì)
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究