投影光刻機(jī)的發(fā)展（投影對(duì)準(zhǔn)機(jī)和步進(jìn)光刻機(jī)）大大延長(zhǎng)了掩模版和放大掩模版的使用壽命．， PC16550DVX這也促進(jìn)了高質(zhì)量的掩模版和放大掩模版的發(fā)展。在生產(chǎn)線上，掩模版使用r很長(zhǎng)一段時(shí)間以后，卜面可能會(huì)有灰塵和劃痕，從而造成晶圓的良品率降低。掩模版受損的一個(gè)原因町能來(lái)自掩模版和放大掩模版的清潔過(guò)程。這是一個(gè)左右為難的尷尬境地，在清洗掩模版和放大掩模版時(shí)，會(huì)造成掩模版污損，清洗本身變成_『污染、劃痕和破損的來(lái)源。

   解決這一問(wèn)題的一個(gè)辦法是掩模版貼膜（見(jiàn)圖10. 20）。掩模版貼膜( pellicle)是一層在框架上拉伸平鋪的無(wú)色有機(jī)聚合物薄膜�？蚣苁撬聻檠谀０婊蚍糯笱谀０嬖O(shè)計(jì)的。掩模版貼膜是在掩模版制成或清潔后加蓋上的。貼膜加在掩模版卜后，環(huán)境中的微粒就會(huì)附著在薄膜表面。薄膜與掩模版之間的距離保證r微粒不會(huì)在掩模版的焦平面上。實(shí)際上，微粒對(duì)于曝光光源來(lái)說(shuō)是透明的。

   使用貼膜的另一個(gè)好處是由于掩模版表面被薄膜覆蓋，一定程度上防止了掩模版劃痕。第三個(gè)好處是一旦覆蓋上貼膜，掩模版和放大掩模版可以省去一些例行的清洗。在一些應(yīng)用中，掩模版貼膜還被加上抗反射涂層，它有助于小幾何尺寸的圖形，尤其是在有反射的晶圓表面。這些好處可以促使晶圓良品率5%~30%的增加19。