電子束曝光的優(yōu)點(diǎn)是分辨率較高
發(fā)布時(shí)間:2019/1/30 16:51:45 訪問(wèn)次數(shù):1886
掩膜版數(shù)據(jù)有以下集中格式:具有等級(jí)分別(hierarchical)的GDSII,最早由美國(guó)通用電氣的Calma部門(mén)開(kāi)發(fā),現(xiàn)在法律歸屬權(quán)由Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司所有。 JA3215-OS-A04在掩膜版掃描曝光機(jī)上,GDSII的使用不方便,機(jī)器希望連續(xù)和“平坦”的數(shù)據(jù)流。()DSII具有等級(jí)分別,重復(fù)的數(shù)據(jù)在存儲(chǔ)上只有一個(gè)非重復(fù)的單元,雖然節(jié)省空間,但是對(duì)于掩膜版光刻機(jī)來(lái)講需要增加幾何和邏輯計(jì)算時(shí)閘。所以,等級(jí)分別必須去掉。不僅如此.設(shè)計(jì)圖樣當(dāng)中的任意大小多邊形(pol蹭ons)也必須分解為一些原始的圖形・如長(zhǎng)方形和工角形。最終,將平坦化的掩膜版數(shù)據(jù)再分解為光刻頭的分區(qū)的數(shù)據(jù)流,叫做“分解”(fracturing)。
電子束曝光的優(yōu)點(diǎn)是分辨率較高,當(dāng)前先進(jìn)的曝光機(jī)使用的電壓為50kV。但是,由于高能電子在掩膜版上的散射,會(huì)再次將掩膜版表面的光刻膠曝光。造成所謂的鄰近效應(yīng)(proximity effecO。在有鄰近效應(yīng)的掩膜版光刻I藝當(dāng)中,會(huì)出現(xiàn)如圖7,86所示的現(xiàn)象。
解決鄰近效應(yīng)的方法有很多,如使用補(bǔ)償曝光方式,在有鄰近效應(yīng)的地方對(duì)曝光進(jìn)行補(bǔ)償。我們?cè)谇懊嬉呀?jīng)講到,離軸照明可以提高對(duì)密集圖形的I藝窗口。對(duì)于空間周期p在0.5^/NA與^/NA之問(wèn)的圖形有著不錯(cuò)的工藝窗口。離軸照明所形成的兩束光(零級(jí)和1級(jí)或者-1級(jí))成像可以使得空間周期夕在0.5λ/NA與^/NA之間的圖形曝光成為可能。也就是說(shuō),上述圖形的空間像對(duì)比度(image∞ntrast)或者能量寬裕度(Exposure I'atitude,EI')會(huì)被大大提升。離軸照明的另一個(gè)好處是對(duì)焦深度,即焦深(Depth of Focus,D(,F)也會(huì)被大大加強(qiáng)。早期使用離軸照明的研究請(qǐng)見(jiàn)文獻(xiàn)E46~48],當(dāng)我們使用傳統(tǒng)照明方式,即人射光垂直于掩膜版平面,我們將獲得三束光成像的情況。注意到在焦點(diǎn)上,0級(jí)和+1級(jí)、-1級(jí)的相位都相等。不過(guò)在離焦的位置上由于±1級(jí)衍射光走過(guò)的距離同軸上的O級(jí)衍射光不同,當(dāng)離焦達(dá)到一定的程度,O級(jí)和+1級(jí)、-1級(jí)的相位會(huì)變得相反,這樣的對(duì)焦深度是有限的。但是如果我們選擇斜人射,可以看出,對(duì)于空問(wèn)周期夕在0,5^/NA與^/NA之間的圖形,進(jìn)入光瞳的衍射級(jí)只可能有兩級(jí)。如果我們精確調(diào)節(jié)入射角,使得1級(jí)衍射光和零級(jí)衍射光之間相對(duì)豎直的光軸的夾角相等,那么隨便離焦等于什么,這兩束光在光軸上任何一點(diǎn)上的相位都相等,或者焦深等于無(wú)窮大。不過(guò),我們不可能使用完全相干的光,一定大小的部分相干性會(huì)導(dǎo)致焦深的迅速縮小,至刂達(dá)正常狀態(tài)。
掩膜版數(shù)據(jù)有以下集中格式:具有等級(jí)分別(hierarchical)的GDSII,最早由美國(guó)通用電氣的Calma部門(mén)開(kāi)發(fā),現(xiàn)在法律歸屬權(quán)由Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司所有。 JA3215-OS-A04在掩膜版掃描曝光機(jī)上,GDSII的使用不方便,機(jī)器希望連續(xù)和“平坦”的數(shù)據(jù)流。()DSII具有等級(jí)分別,重復(fù)的數(shù)據(jù)在存儲(chǔ)上只有一個(gè)非重復(fù)的單元,雖然節(jié)省空間,但是對(duì)于掩膜版光刻機(jī)來(lái)講需要增加幾何和邏輯計(jì)算時(shí)閘。所以,等級(jí)分別必須去掉。不僅如此.設(shè)計(jì)圖樣當(dāng)中的任意大小多邊形(pol蹭ons)也必須分解為一些原始的圖形・如長(zhǎng)方形和工角形。最終,將平坦化的掩膜版數(shù)據(jù)再分解為光刻頭的分區(qū)的數(shù)據(jù)流,叫做“分解”(fracturing)。
電子束曝光的優(yōu)點(diǎn)是分辨率較高,當(dāng)前先進(jìn)的曝光機(jī)使用的電壓為50kV。但是,由于高能電子在掩膜版上的散射,會(huì)再次將掩膜版表面的光刻膠曝光。造成所謂的鄰近效應(yīng)(proximity effecO。在有鄰近效應(yīng)的掩膜版光刻I藝當(dāng)中,會(huì)出現(xiàn)如圖7,86所示的現(xiàn)象。
解決鄰近效應(yīng)的方法有很多,如使用補(bǔ)償曝光方式,在有鄰近效應(yīng)的地方對(duì)曝光進(jìn)行補(bǔ)償。我們?cè)谇懊嬉呀?jīng)講到,離軸照明可以提高對(duì)密集圖形的I藝窗口。對(duì)于空間周期p在0.5^/NA與^/NA之問(wèn)的圖形有著不錯(cuò)的工藝窗口。離軸照明所形成的兩束光(零級(jí)和1級(jí)或者-1級(jí))成像可以使得空間周期夕在0.5λ/NA與^/NA之間的圖形曝光成為可能。也就是說(shuō),上述圖形的空間像對(duì)比度(image∞ntrast)或者能量寬裕度(Exposure I'atitude,EI')會(huì)被大大提升。離軸照明的另一個(gè)好處是對(duì)焦深度,即焦深(Depth of Focus,D(,F)也會(huì)被大大加強(qiáng)。早期使用離軸照明的研究請(qǐng)見(jiàn)文獻(xiàn)E46~48],當(dāng)我們使用傳統(tǒng)照明方式,即人射光垂直于掩膜版平面,我們將獲得三束光成像的情況。注意到在焦點(diǎn)上,0級(jí)和+1級(jí)、-1級(jí)的相位都相等。不過(guò)在離焦的位置上由于±1級(jí)衍射光走過(guò)的距離同軸上的O級(jí)衍射光不同,當(dāng)離焦達(dá)到一定的程度,O級(jí)和+1級(jí)、-1級(jí)的相位會(huì)變得相反,這樣的對(duì)焦深度是有限的。但是如果我們選擇斜人射,可以看出,對(duì)于空問(wèn)周期夕在0,5^/NA與^/NA之間的圖形,進(jìn)入光瞳的衍射級(jí)只可能有兩級(jí)。如果我們精確調(diào)節(jié)入射角,使得1級(jí)衍射光和零級(jí)衍射光之間相對(duì)豎直的光軸的夾角相等,那么隨便離焦等于什么,這兩束光在光軸上任何一點(diǎn)上的相位都相等,或者焦深等于無(wú)窮大。不過(guò),我們不可能使用完全相干的光,一定大小的部分相干性會(huì)導(dǎo)致焦深的迅速縮小,至刂達(dá)正常狀態(tài)。
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