在閱讀光刻工藝的每一個工藝步驟時，應(yīng)時刻記住這樣一個事實，AD9882AKSTZ-140那就是光刻工藝的根本目標(biāo)是在晶圓表面層忠實地再現(xiàn)所需要的圖形尺寸。每～個步驟都會影響最終的圖形尺寸，并且每一步工藝步驟都有它的內(nèi)部變異。有些光刻膠工藝變異裕度更大，那就是說，它們有更寬的工藝范圍。T藝范圍越寬，在晶圓表面達到所需要尺寸規(guī)范的可能性就越大，

   針孔是光刻膠層尺寸非常小的空洞，針孔是有害的，因為它會允許刻蝕劑滲過光刻膠層進而在晶圓表面層刻蝕出小孔j針孔是在涂膠工藝中由環(huán)境中的微粒污染物造成的，也可以由光刻膠層結(jié)構(gòu)上的空洞造成。

   光刻膠層越薄，針孔越多。因此，光刻膠厚膜上的針孔比薄膜上的針孔要少，但是它卻降低了光刻膠的分辨率。這兩個因素是光刻膠厚度選擇過程中的一個典型的權(quán)衡。正膠的一個重要的優(yōu)點就是有更高的深寬比，這個特性能夠允許正膠用更厚的光刻膠膜，以達到想要的圖形尺寸并且針孑L更少。

   微粒和污染水平

   光刻膠，和其他工藝化學(xué)品一樣，必須在微粒含量、鈉和微量金屬雜質(zhì)，以及水含囂方面能達到嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。