餅式或垂直APCVD系統(tǒng)受到_『小型生產線和R&D實驗室的鐘愛（見圖12. 14）。 G784RD1U在該系統(tǒng)中晶圓被放置在旋轉的石墨托架上，并通過托架下面的射頻線圈，以傳導感應的方式給晶圓加熱．，反應氣體通過管路流入，在晶圓的上方流出。垂直氣流具有持續(xù)供應新反應氣體的優(yōu)點，從而將向下流動的氣體的損耗降到最小。旋轉和垂直氣流的結合產生良好的薄膜均勻性。類似于水平爐管式系統(tǒng)，餅式能夠容納的晶圓數(shù)量有限，在較小系統(tǒng)中的生產率受到限制。

   雙子星座( Gemini)研究公司提出了餅式設計的生產型的變種，反應室采用電阻式輻射加熱和是否具有機械手自動裝載功能的大容量托架。