污染物和直觀缺陷檢測對于獲得高的良品率和工藝控制是非常重要的。IRF530顆粒污染物主要通過光學(xué)技術(shù)檢測，比如高強(qiáng)度光、顯微鏡、掃描電鏡和其他自動(dòng)裝置�；瘜W(xué)污染物通過俄歇( Auger)技術(shù)和電子分光鏡的化學(xué)分析(ESCA)技術(shù)來檢測和定義。由于器件尺寸已經(jīng)變得更小，像每一種微芯片工藝一樣，致命的缺陷和污染的檢測也已經(jīng)要求增加技術(shù).

   首先要在放大率為1（或者在顯微鏡術(shù)語里稱為l×Power）的情況下觀察晶圓。或品圓批的外觀即使有很小的變化都能被識別以便進(jìn)一步檢查（見圖14. 20），肉眼的分辨能力(lx)可通過使用高強(qiáng)度白光來得到補(bǔ)償，比如幻燈投影儀光束（見圖14. 21）。當(dāng)以一定角度觀察晶圓時(shí)，顆粒污染物會在光束下顯現(xiàn)出來，這種效應(yīng)類似于光束經(jīng)過窗口時(shí)窄氣中塵埃的顯現(xiàn)。14. 8.3 1×紫外線

肉眼.

   實(shí)際±二，肉眼不能看見紫外線光束，但來自汞燈的紫外線會發(fā)射藍(lán)、綠以及一些紅光。由于紫外線對視網(wǎng)膜有害，    圖14.21準(zhǔn)直光檢測所以有，一種過濾器常常被放到光源處以封閉紫外線。用于制造區(qū)域的紫外線的主要優(yōu)點(diǎn)是它非常亮，也就是說，分散光的亮度很大，因此會提高對表面污染物的檢測能力。