半導(dǎo)體制造中所使用的液態(tài)化 OP2177ARMZ-R2學(xué)品必須不能含有沾污,通過(guò)使用過(guò)濾器來(lái)保證化學(xué)品的純度。不同的過(guò)濾器分類(lèi)如下:

   顆粒過(guò)濾(P・article Ⅱl“ation):用于過(guò)濾大約1.5um以上顆粒;

   微過(guò)濾(Micro丘ltration):用于去除液體中0.1~1.5um范圍顆粒的膜過(guò)濾;

   超過(guò)濾(U1tra丘ltration):用于去除0.005~0.1um尺寸大分子的加壓膜過(guò)濾;

   反滲透(RcⅤcrsc Osmosis):也稱為超級(jí)過(guò)濾(HypCr丘ltration),采用加壓的方式,使得液體通過(guò)一層半滲透膜,過(guò)濾掉至接近0.005um的顆粒和金屬離子。

   膜過(guò)濾使用聚合物薄膜或帶有細(xì)小滲透孔的陶瓷作為過(guò)濾器媒介,用于工藝設(shè)備之前提供最后的過(guò)濾。

   過(guò)濾器應(yīng)不對(duì)氣體流量產(chǎn)生顯著的壓力衰減,不引入二次沾污并化學(xué)品相容。對(duì)于ULsI工藝中使用的液體過(guò)濾器,對(duì)于0.2um以上顆粒的過(guò)濾效率達(dá)到∞,⑼”99%(稱為“9個(gè)9效率”)。