半導(dǎo)體制造使用的氣體大都為超純氣體,氣體經(jīng)過(guò)提純器和氣體過(guò)濾器去除雜質(zhì)和顆粒。OP2177ARMZ-REEL氣體過(guò)濾器大都由聚四氟乙烯制成,也有一些氣體過(guò)濾器是全金屬的(如鎳)。這種金屬過(guò)濾器具有一層鎳膜,能夠經(jīng)受腐蝕性氣體,可有效過(guò)濾小至0。003um的顆粒,并且不會(huì)產(chǎn)生顆�；蜥尫庞袡C(jī)沾污。

   由于現(xiàn)代半導(dǎo)體制造自動(dòng)化程度的提高,生產(chǎn)設(shè)備成為半導(dǎo)體制造中最大的顆粒來(lái)源。工藝設(shè)各中各種沾污顆粒來(lái)源有剝落的副產(chǎn)物積累在腔壁上、自動(dòng)化的硅片裝卸和傳送、機(jī)械操作,如旋轉(zhuǎn)手柄和開(kāi)關(guān)閥門(mén)、真空環(huán)境的抽取和排放以及清洗和維護(hù)過(guò)程等。硅片制造過(guò)程中,硅片從片架傳入設(shè)備,在設(shè)備中完成相應(yīng)工藝

后,再返回到片架中,被送交到下一工作臺(tái),這一過(guò)程可能重復(fù)上百次。當(dāng)硅片經(jīng)過(guò)更多的設(shè)備操作時(shí),硅片表面的顆粒數(shù)將增加。光滑、高度拋光的表面是減少顆粒沾污最好的方法,不銹鋼是廣泛采用的工作臺(tái)面和凈化間設(shè)備材料。