一些半導(dǎo)體制造廠采用穿壁式設(shè)備布局來(lái)安裝設(shè)備
發(fā)布時(shí)間:2016/6/18 20:36:57 訪問(wèn)次數(shù):499
一些半導(dǎo)體制造廠采用穿壁式設(shè)備布局來(lái)安裝設(shè)備,設(shè)備的主要部分位于生產(chǎn)區(qū)后面的夾層中, OP2177AR-REEL只有用戶界面操作平臺(tái)和硅片架位于生產(chǎn)線內(nèi)。為減少顆粒,半導(dǎo)體制造中采用片架在設(shè)備間傳送硅片(典型情況下,每個(gè)片架放25片硅片)。片架需要滿足產(chǎn)生的顆粒最少、釋放靜電和最小化學(xué)物釋放的要求。當(dāng)前,硅片進(jìn)入工藝室廣泛采用靜電吸盤,靜電吸盤通過(guò)對(duì)卡的電極施加電壓產(chǎn)生靜電荷工作,電極通過(guò)絕緣介質(zhì)與硅片后表面隔離,硅片的下表面感應(yīng)出相 反的電荷,把硅片緊緊拉向卡盤。現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中普遍采用微環(huán)境來(lái)加工硅片。微環(huán)境通常是建在潔凈室內(nèi)部的,裝備風(fēng)機(jī)過(guò)濾器裝置的框架結(jié)構(gòu),四周用側(cè)壁隔離周圍環(huán)境和塵埃對(duì)設(shè)備和工藝的影響。微環(huán)境可以在一個(gè)特定小區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)比周圍環(huán)境高得多的潔凈等級(jí)。微環(huán)境凈化區(qū)域包括用來(lái)支撐硅片的支架、硅片工藝室,裝在通道和儲(chǔ)藏區(qū)域。
微環(huán)境被控制到極端潔凈的凈化級(jí)別(如0.1um的0,1級(jí)),而凈化間本身在一個(gè)較高的凈化等級(jí),如10級(jí)。這種情況使得硅片在裝載、卸載和置于工作臺(tái)加工時(shí)能更簡(jiǎn)便地獲得超潔凈的環(huán)境。
一些半導(dǎo)體制造廠采用穿壁式設(shè)備布局來(lái)安裝設(shè)備,設(shè)備的主要部分位于生產(chǎn)區(qū)后面的夾層中, OP2177AR-REEL只有用戶界面操作平臺(tái)和硅片架位于生產(chǎn)線內(nèi)。為減少顆粒,半導(dǎo)體制造中采用片架在設(shè)備間傳送硅片(典型情況下,每個(gè)片架放25片硅片)。片架需要滿足產(chǎn)生的顆粒最少、釋放靜電和最小化學(xué)物釋放的要求。當(dāng)前,硅片進(jìn)入工藝室廣泛采用靜電吸盤,靜電吸盤通過(guò)對(duì)卡的電極施加電壓產(chǎn)生靜電荷工作,電極通過(guò)絕緣介質(zhì)與硅片后表面隔離,硅片的下表面感應(yīng)出相 反的電荷,把硅片緊緊拉向卡盤。現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中普遍采用微環(huán)境來(lái)加工硅片。微環(huán)境通常是建在潔凈室內(nèi)部的,裝備風(fēng)機(jī)過(guò)濾器裝置的框架結(jié)構(gòu),四周用側(cè)壁隔離周圍環(huán)境和塵埃對(duì)設(shè)備和工藝的影響。微環(huán)境可以在一個(gè)特定小區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)比周圍環(huán)境高得多的潔凈等級(jí)。微環(huán)境凈化區(qū)域包括用來(lái)支撐硅片的支架、硅片工藝室,裝在通道和儲(chǔ)藏區(qū)域。
微環(huán)境被控制到極端潔凈的凈化級(jí)別(如0.1um的0,1級(jí)),而凈化間本身在一個(gè)較高的凈化等級(jí),如10級(jí)。這種情況使得硅片在裝載、卸載和置于工作臺(tái)加工時(shí)能更簡(jiǎn)便地獲得超潔凈的環(huán)境。
熱門點(diǎn)擊
- N型半導(dǎo)體中摻入的雜質(zhì)為磷或其他五價(jià)元素
- 鋁與硅
- 刮刀印刷角度
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- 現(xiàn)代電子裝聯(lián)工藝裝備的基本概念
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推薦技術(shù)資料
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