實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),在干氧氧化的氣氛中,只要存在極少量的水汽,就會(huì)對氧化速率產(chǎn)生很大影響。對于OMAPL138BZCE3硅的(10O)晶面,在800℃的溫度下進(jìn)行干氧氧化時(shí),當(dāng)氧化劑氣氛中的水汽含量小于1ppm時(shí),氧化70O min,氧化層厚度為300A;在同樣條件下,水汽含量為25ppm時(shí),氧化層厚度為370A。在上述實(shí)驗(yàn)中,為了準(zhǔn)確控制水汽含量,氧氣源是液態(tài)的。為了防止高溫下水汽通過石英管壁進(jìn)人氧化爐內(nèi),氧化石英管是雙層的,并在兩層中間通有高純氮或氬,這樣可以把通過外層石英管進(jìn)入到夾層中的水汽及時(shí)排除。