現(xiàn)在世界上主要光刻機制造商為荷蘭的阿斯麥
發(fā)布時間:2017/10/24 20:41:21 訪問次數(shù):1473
現(xiàn)在世界上主要光刻機制造商為荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的尼康(Nikon)、佳能XC1765ELPD8C(Canon)以及其他的非全尺寸的光刻機廠商,如Ultrastepper等。國產(chǎn)先進掃描式光刻機制造起步較晚,在~9O02年之后,主要由上海微電子裝備有限公司(SMEE)研發(fā)。國產(chǎn)光刻機從維修二手的光刻機發(fā)展到了自主研發(fā)、制造光刻機。當前在開發(fā)的最先進的光刻機是193nm的SSA600/⒛(見圖7.3),雖然與世界先進水平還有較大差距,但是,應該說已經(jīng)取得了可喜進步。其數(shù)值孔徑為0.75,標準曝光場為26×33mm,分辨率為90nm,套刻精度為⒛nm,300mm產(chǎn)能為每小時80片。
圖7.3 上海微電子裝各有限公司正在開發(fā)的sSA600/⒛型號193nm步進-掃描式光刻機
現(xiàn)在世界上主要光刻機制造商為荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的尼康(Nikon)、佳能XC1765ELPD8C(Canon)以及其他的非全尺寸的光刻機廠商,如Ultrastepper等。國產(chǎn)先進掃描式光刻機制造起步較晚,在~9O02年之后,主要由上海微電子裝備有限公司(SMEE)研發(fā)。國產(chǎn)光刻機從維修二手的光刻機發(fā)展到了自主研發(fā)、制造光刻機。當前在開發(fā)的最先進的光刻機是193nm的SSA600/⒛(見圖7.3),雖然與世界先進水平還有較大差距,但是,應該說已經(jīng)取得了可喜進步。其數(shù)值孔徑為0.75,標準曝光場為26×33mm,分辨率為90nm,套刻精度為⒛nm,300mm產(chǎn)能為每小時80片。
圖7.3 上海微電子裝各有限公司正在開發(fā)的sSA600/⒛型號193nm步進-掃描式光刻機
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