光學(xué)顯微鏡
發(fā)布時間:2017/11/15 20:39:56 訪問次數(shù):783
光學(xué)顯微鏡l,xl其操作簡單、圖像苜TPS71025D觀的特性,廣泛用于集成電路的觀測(inspection)。
隨著物理尺寸和缺陷尺寸的縮小,對觀測設(shè)備的高分辨率要求的提高,掃描電子顯微鏡(SEM)逐漸代替光學(xué)顯微鏡成為主要觀察⒈具。但最終,掃描電鏡,其分辨率也不能滿足深亞微米技術(shù)某些關(guān)鍵尺寸/結(jié)構(gòu)要求,囚此透射電子顯微鏡及掃描探針技術(shù)的應(yīng)用變得
越來越廣。
表面為曲面的玻璃或其他透明材料制成的光學(xué)透鏡可以使物體放大成像,光學(xué)顯微鏡就是利用這一原理,把人眼所不能分辨的近處的微小物體放大到人眼足以觀察的尺寸。光學(xué)顯微鏡一般由聚光照明系統(tǒng)、物鏡.日鏡(光學(xué)系統(tǒng))載物臺、調(diào)焦機(jī)構(gòu)(機(jī)械系統(tǒng))和照相系統(tǒng)組成。聚光照明系統(tǒng)主要由光源和聚光鏡構(gòu)成.光源即能發(fā)射光波的物體,光源產(chǎn)生的光束(常為可見光,紫外線/UV,和深紫外線DUⅤ)經(jīng)聚光鏡作用后使其集屮到置于載物臺上樣品的被觀察部分。被觀察物體位于物鏡前方(離開物鏡的距離大于物鏡的焦距,但小于兩倍物鏡焦距),物鏡是實現(xiàn)第一級放大的鏡頭,物體經(jīng)物鏡放大后成一倒立實像,在顯微鏡的沒汁上.將此像落在目鏡的一倍焦距之內(nèi),使物鏡所放大的第一次像(中問像),叉被目鏡再一次放大,最終在目鏡的物方(L護(hù)間像的同側(cè))、人眼的明視距離(250mm)處形成放大的直立(相對中間像而言)虛像,人眼看到的就是虛像。在觀測時,利用調(diào)焦旋鈕使載物臺作粗調(diào)和微調(diào)的升降運動,使被觀察物體調(diào)焦清晰成像。
物鏡是顯微鏡屮對成像質(zhì)量優(yōu)劣起決定性作用的光學(xué)元件。一般物鏡的最大放大倍數(shù)為160x或⒛Ox;目鏡放大倍數(shù)為lOx,囚此,顯微鏡最大放大倍數(shù)為160Ox或2000x。人眼在自然狀態(tài)下的分辨能力約為0.25um9則顯微鏡的最大分辨能力為O.16um或0・13um。顯而易見,顯微鏡的分辨極限已經(jīng)不能滿足深亞微米IC結(jié)構(gòu)分析對分辨率的要求。
光學(xué)顯微鏡l,xl其操作簡單、圖像苜TPS71025D觀的特性,廣泛用于集成電路的觀測(inspection)。
隨著物理尺寸和缺陷尺寸的縮小,對觀測設(shè)備的高分辨率要求的提高,掃描電子顯微鏡(SEM)逐漸代替光學(xué)顯微鏡成為主要觀察⒈具。但最終,掃描電鏡,其分辨率也不能滿足深亞微米技術(shù)某些關(guān)鍵尺寸/結(jié)構(gòu)要求,囚此透射電子顯微鏡及掃描探針技術(shù)的應(yīng)用變得
越來越廣。
表面為曲面的玻璃或其他透明材料制成的光學(xué)透鏡可以使物體放大成像,光學(xué)顯微鏡就是利用這一原理,把人眼所不能分辨的近處的微小物體放大到人眼足以觀察的尺寸。光學(xué)顯微鏡一般由聚光照明系統(tǒng)、物鏡.日鏡(光學(xué)系統(tǒng))載物臺、調(diào)焦機(jī)構(gòu)(機(jī)械系統(tǒng))和照相系統(tǒng)組成。聚光照明系統(tǒng)主要由光源和聚光鏡構(gòu)成.光源即能發(fā)射光波的物體,光源產(chǎn)生的光束(常為可見光,紫外線/UV,和深紫外線DUⅤ)經(jīng)聚光鏡作用后使其集屮到置于載物臺上樣品的被觀察部分。被觀察物體位于物鏡前方(離開物鏡的距離大于物鏡的焦距,但小于兩倍物鏡焦距),物鏡是實現(xiàn)第一級放大的鏡頭,物體經(jīng)物鏡放大后成一倒立實像,在顯微鏡的沒汁上.將此像落在目鏡的一倍焦距之內(nèi),使物鏡所放大的第一次像(中問像),叉被目鏡再一次放大,最終在目鏡的物方(L護(hù)間像的同側(cè))、人眼的明視距離(250mm)處形成放大的直立(相對中間像而言)虛像,人眼看到的就是虛像。在觀測時,利用調(diào)焦旋鈕使載物臺作粗調(diào)和微調(diào)的升降運動,使被觀察物體調(diào)焦清晰成像。
物鏡是顯微鏡屮對成像質(zhì)量優(yōu)劣起決定性作用的光學(xué)元件。一般物鏡的最大放大倍數(shù)為160x或⒛Ox;目鏡放大倍數(shù)為lOx,囚此,顯微鏡最大放大倍數(shù)為160Ox或2000x。人眼在自然狀態(tài)下的分辨能力約為0.25um9則顯微鏡的最大分辨能力為O.16um或0・13um。顯而易見,顯微鏡的分辨極限已經(jīng)不能滿足深亞微米IC結(jié)構(gòu)分析對分辨率的要求。
上一篇:微分析技術(shù)
上一篇:掃描電鏡
熱門點擊
- 準(zhǔn)則2:連續(xù)9點落在中心線同一側(cè),
- yield的基本定義及擴(kuò)展
- sACVD沉積后的高溫退火
- 選擇性鍺硅外延工藝
- 在微電子工藝中常用的介質(zhì)薄膜還有氮化硅薄膜
- 曝光能量寬裕度指的是在線寬允許變化范圍內(nèi)
- 為了保證Ti/TiN起到黏合和阻擋作用
- 多晶硅柵刻蝕
- Marangoni干燥:
- 為什么sACⅤD被再次使用
推薦技術(shù)資料
- 全新高端射頻儀器
- 集成32位RISC-V處理器&
- 第三代半導(dǎo)體和圖像傳感器 參數(shù)封裝應(yīng)用
- 汽車半導(dǎo)體
- 人形機(jī)器人技術(shù)結(jié)構(gòu)設(shè)計及發(fā)展分
- 紫光芯片云3.0整體解決方案
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機(jī)遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究