白動的方式巾基于模型的方式會根據(jù)空問像的需要白動地在某些孤立的圖形邊上增加亞衍射散射條。JDV2S09S這種做法町以根據(jù)一系列驗證過的規(guī)則(如以上提到的例子),或者純粹根據(jù)仿真的做法。當(dāng)然這種仿真的方法不是我們前面講到的方法。這里講到的方法是根據(jù)已知的掩膜版圖形和光刻參數(shù),如光刻機的參數(shù)(如數(shù)值孔徑、照明條件、像差等)和光刻膠的參數(shù)(如光酸擴散長度、顯影對比度曲線),根據(jù)給定的lE向模型即從掩膜版到硅片圖形的模型,來確定最佳的掩膜版圖形分布函數(shù)。這種方法義叫作逆光刻方法(Inverse I'ithography,Ⅱ');。

   這種方法的主要思想是將掩膜版均勻分成方塊圖像單元,由一個給定的仿真模型(如空問像+閾值模型)從-個初始函數(shù)(掩膜版的原始設(shè)計圖樣)來對每一個掩膜版單元進行考察,看將其設(shè)定成“0”或者“1”對一些預(yù)先定義的考察I藝好壞的參量,或者代價函數(shù)有沒有變化。如果設(shè)定成“0”對降低代價函數(shù)有利,那么就算是原先在這個單元上是“1”,或者不透明,經(jīng)過這一輪逆光刻運算,它會被改成“透明”。經(jīng)過這樣的反復(fù)運算,直到最后結(jié)果不再明顯變化為止。那么,這樣的掩膜版函數(shù)被認(rèn)定為優(yōu)化了的函數(shù)。常見的代價函數(shù)可以有以下幾種:

   (1)與設(shè)計圖形的差異。

   (2)與設(shè)計圖形在給定的離焦后的差異。

   (3)與設(shè)計圖形在曝光能量偏移給定量后的差異。

   (4)與設(shè)計圖形在掩膜版存在給定誤差后的差異。

   (1)它不需要基于先前的對使用照明條件、掩膜版圖形優(yōu)化的經(jīng)驗而制定的規(guī)則。它只需要用戶給出所有關(guān)鍵地方的圖形尺寸規(guī)格,以定義代價函數(shù)。

   (2)它不需要針對亞衍射散射條使用的規(guī)則,相反地,它可以白動產(chǎn)生亞衍射散射條,閃為整個掩膜版的每一個圖形單元都被放在了優(yōu)化之列。如果需要,亞衍射散射條會被白動合成。

   (3)這種方法也可以用于對照明條件的初始值給出優(yōu)化的照明條件。其實,它也是一種照明一掩膜優(yōu)化。