干法腐蝕中的損傷效應(yīng)及其工藝控制要求
發(fā)布時(shí)間:2012/4/27 19:49:14 訪問(wèn)次數(shù):648
物理干法腐蝕是非選擇性的腐蝕，是一種碰撞過(guò)程，屬定向刻蝕，它包括2SC3425反應(yīng)離子刻蝕和化學(xué)一物理干法腐蝕，它們都是以等離子體為基礎(chǔ)的腐蝕方法，對(duì)制造微米級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu)更為關(guān)鍵。反應(yīng)離子刻蝕會(huì)引起器件反向漏電流增大�；瘜W(xué)一物理干法腐蝕是選擇性的，對(duì)不同材料有較大差別。使用離子轟擊或離子轟擊加涂層會(huì)改變和損傷絕緣體和被腐蝕半導(dǎo)體的特性。等離子體產(chǎn)生的高能光子增大這種損傷將加重。由離子轟擊連同涂層形成物或高能光子所產(chǎn)生的損傷都可歸于：
①內(nèi)部的鍵損傷。
②腐蝕物質(zhì)和雜質(zhì)摻雜。
③殘?jiān)虮砻姹∧ど晌�，這些殘?jiān)鼘⑹蛊骷恼驂航翟龃蟆?BR> 為消除干法腐蝕工藝對(duì)產(chǎn)品可靠性的影響，應(yīng)對(duì)離子能量進(jìn)行控制。
①內(nèi)部的鍵損傷。
②腐蝕物質(zhì)和雜質(zhì)摻雜。
③殘?jiān)虮砻姹∧ど晌�，這些殘?jiān)鼘⑹蛊骷恼驂航翟龃蟆?BR> 為消除干法腐蝕工藝對(duì)產(chǎn)品可靠性的影響，應(yīng)對(duì)離子能量進(jìn)行控制。
物理干法腐蝕是非選擇性的腐蝕，是一種碰撞過(guò)程，屬定向刻蝕，它包括2SC3425反應(yīng)離子刻蝕和化學(xué)一物理干法腐蝕，它們都是以等離子體為基礎(chǔ)的腐蝕方法，對(duì)制造微米級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu)更為關(guān)鍵。反應(yīng)離子刻蝕會(huì)引起器件反向漏電流增大。化學(xué)一物理干法腐蝕是選擇性的，對(duì)不同材料有較大差別。使用離子轟擊或離子轟擊加涂層會(huì)改變和損傷絕緣體和被腐蝕半導(dǎo)體的特性。等離子體產(chǎn)生的高能光子增大這種損傷將加重。由離子轟擊連同涂層形成物或高能光子所產(chǎn)生的損傷都可歸于：
①內(nèi)部的鍵損傷。
②腐蝕物質(zhì)和雜質(zhì)摻雜。
③殘?jiān)虮砻姹∧ど晌�，這些殘?jiān)鼘⑹蛊骷恼驂航翟龃蟆?BR> 為消除干法腐蝕工藝對(duì)產(chǎn)品可靠性的影響，應(yīng)對(duì)離子能量進(jìn)行控制。
①內(nèi)部的鍵損傷。
②腐蝕物質(zhì)和雜質(zhì)摻雜。
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