在氧化反應(yīng)方程式的反應(yīng)方向的箭頭下，有一個(gè)三角形。這個(gè)三角形表示化學(xué)反應(yīng)需要的能量。在硅技術(shù)里，這些能量來源于對(duì)晶圓的加熱， K4X51323PE-8GC3所以稱為熱氧化反應(yīng)( thermal oxidation)。二氧化硅層在常壓或高壓條件下生長(zhǎng)。常壓氧化發(fā)生在不必有意控制內(nèi)部壓力的系統(tǒng)中，其壓力就是當(dāng)?shù)氐拇髿鈮�。有兩種常壓技術(shù)：管式反應(yīng)爐( tube furnace)和快速氧化系統(tǒng)(rapidthermal system)（見圖7.15）。

   水平管式反應(yīng)爐

   水平管式反應(yīng)爐從20世紀(jì)60年代早期開始應(yīng)用在氧化、擴(kuò)散、熱處理以及各種淀積 工藝中。轉(zhuǎn)換到200 mm和300 mm晶圓后開始使用垂直管式反應(yīng)爐。加工較小直徑晶圓的 晶圓制造廠仍然采用永平管式反應(yīng)爐。兩種系統(tǒng)的基本工作原理是一樣的。

   圖7. 16顯示廠一個(gè)有3個(gè)加熱區(qū)的水平單爐管式反應(yīng)爐的截面圖。它包含一個(gè)由多鋁 紅柱石材料制成的陶瓷爐管，管的內(nèi)表面有銅材料制成的加熱管絲。每一段加熱管絲決定一 個(gè)加熱區(qū)并且由相應(yīng)獨(dú)立的電源供電，并由比例控制器控制其溫度。在反應(yīng)爐里有個(gè)石英的 爐管，它被用做氧化（或其他工藝）反應(yīng)室。反應(yīng)室可以在一個(gè)瓷套管里，瓷套管稱為套筒 ( muffle)。它起到一個(gè)熱接受器的作用，可以使沿石英爐管的熱分配比較均勻。