離子轟擊靶過程是指等離子體中的離子在電場作用下加速轟擊陰極靶, L78L05ACD13TR靶原子(及其他粒子)飛濺離開靶表面的過程。如圖⒏18所示為離子轟擊固體表面時可能發(fā)生的物理現(xiàn)象。即可能發(fā)生4種現(xiàn)象,而濺射現(xiàn)象僅僅是離子對固體表面轟擊時可能發(fā)生的現(xiàn)象之一。

   究竟會出現(xiàn)哪一種現(xiàn)象主要取決于人射離子的能量。①能量很低的離子會從表面簡單地反彈回氣相;②能量低于10cV的離子會吸附于固體表面,以熱(聲子)形式釋放其能量;③能量大于10keV的離子,將穿越固體表面數(shù)層原子,釋放出大多數(shù)能量,改變了襯底的物理結(jié)構(gòu),成為注人離子;④能量在10eV~10keV之間時,離子的一部分能量以熱的形式釋放,其余部分能量轉(zhuǎn)化為與表層原子碰撞造成原子逸出時的動能,逸出原子攜帶的能量在10~50eV之間。從固體表面逸出顆粒物質(zhì)的機(jī)理相當(dāng)復(fù)雜,涉及化學(xué)鍵的斷裂和物理位移耦合作用。

   離子轟擊靶的過程中,從陰極靶逸出的粒子主要是原子,總量的95%,其余是雙原子(或分子)。衡量濺射效率的參數(shù)是濺射 率,即人射一個離子所濺射出的原子個數(shù),叉稱為濺射產(chǎn)額。