某型DDS器件的電離總劑量輻照試驗(yàn)
發(fā)布時(shí)間:2019/5/14 20:53:48 訪問次數(shù):1517
某型DDS器件的電離總劑量輻照試驗(yàn)
某型DDs器件(直接數(shù)字頻率合成器),采用外延硅0.13um CMOs工藝,6層金屬布線.M24C32-WMN6TP器件內(nèi)核工作電壓為1,2V,外部V0工作電壓為3,3V,其引腳排列圖如圖3-14所示。
因此,該器件采用MOs器件的試驗(yàn)流程進(jìn)行試驗(yàn),具體試驗(yàn)內(nèi)容如下。
l)輻射源選擇
輻照源為鈷60澍線源。輻照場在試驗(yàn)樣品輻照面積內(nèi)的不均勻性小于10%。本試驗(yàn)的總劑量輻照源為中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所的鈷60側(cè)線源,或其他滿足要求的輻照源。
2)試驗(yàn)環(huán)境要求
若無其他規(guī)定,所有試驗(yàn)應(yīng)該在下列環(huán)境中進(jìn)行:環(huán)境溫度為15℃~35℃;相對濕度為20%RH~80%RH。
3)試驗(yàn)樣品選擇及處置
樣本數(shù)為2只/每晶圓。另外抽取一只樣品不輻照作為對比樣品,對比樣品和輻照樣品一起每次進(jìn)行電測試。
4)劑量率及總劑量
劑量率為0,5Gy(Si)人(±10%),規(guī)定總劑量為10OOGy(si)。
5)電測要求
總劑量輻照試驗(yàn)前后的測試采用移位測試。在電參數(shù)測量時(shí),先用對比樣品進(jìn)行測量系統(tǒng)檢查,測試數(shù)據(jù)和被試樣品的測試數(shù)據(jù)一起保存。輻照前、后的電參數(shù)測試應(yīng)在同一測試系統(tǒng)上進(jìn)行,測試項(xiàng)目的順序和測試條件應(yīng)保持不變,電參數(shù)測試的時(shí)間間隔遵守如下規(guī)定:
(1)輻照結(jié)束到開始電參數(shù)測試的時(shí)間間隔不得超過1h。
(2)上一次輻照結(jié)束到下一次輻照開始之間的時(shí)間間隔不得超過2h。
如果輻照后的電參數(shù)測試采用移位測試的方式進(jìn)行,那么將器件從輻射源移至測試地點(diǎn)進(jìn)行測試,以及測試完畢返回輻射源繼續(xù)進(jìn)行輻照的過程中,應(yīng)將器件的所有引腳短接。
某型DDS器件的電離總劑量輻照試驗(yàn)
某型DDs器件(直接數(shù)字頻率合成器),采用外延硅0.13um CMOs工藝,6層金屬布線.M24C32-WMN6TP器件內(nèi)核工作電壓為1,2V,外部V0工作電壓為3,3V,其引腳排列圖如圖3-14所示。
因此,該器件采用MOs器件的試驗(yàn)流程進(jìn)行試驗(yàn),具體試驗(yàn)內(nèi)容如下。
l)輻射源選擇
輻照源為鈷60澍線源。輻照場在試驗(yàn)樣品輻照面積內(nèi)的不均勻性小于10%。本試驗(yàn)的總劑量輻照源為中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所的鈷60側(cè)線源,或其他滿足要求的輻照源。
2)試驗(yàn)環(huán)境要求
若無其他規(guī)定,所有試驗(yàn)應(yīng)該在下列環(huán)境中進(jìn)行:環(huán)境溫度為15℃~35℃;相對濕度為20%RH~80%RH。
3)試驗(yàn)樣品選擇及處置
樣本數(shù)為2只/每晶圓。另外抽取一只樣品不輻照作為對比樣品,對比樣品和輻照樣品一起每次進(jìn)行電測試。
4)劑量率及總劑量
劑量率為0,5Gy(Si)人(±10%),規(guī)定總劑量為10OOGy(si)。
5)電測要求
總劑量輻照試驗(yàn)前后的測試采用移位測試。在電參數(shù)測量時(shí),先用對比樣品進(jìn)行測量系統(tǒng)檢查,測試數(shù)據(jù)和被試樣品的測試數(shù)據(jù)一起保存。輻照前、后的電參數(shù)測試應(yīng)在同一測試系統(tǒng)上進(jìn)行,測試項(xiàng)目的順序和測試條件應(yīng)保持不變,電參數(shù)測試的時(shí)間間隔遵守如下規(guī)定:
(1)輻照結(jié)束到開始電參數(shù)測試的時(shí)間間隔不得超過1h。
(2)上一次輻照結(jié)束到下一次輻照開始之間的時(shí)間間隔不得超過2h。
如果輻照后的電參數(shù)測試采用移位測試的方式進(jìn)行,那么將器件從輻射源移至測試地點(diǎn)進(jìn)行測試,以及測試完畢返回輻射源繼續(xù)進(jìn)行輻照的過程中,應(yīng)將器件的所有引腳短接。
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