存儲器領域的發(fā)展再次火熱起來
發(fā)布時間:2019/9/4 10:12:27 訪問次數(shù):1035
近來,中國大陸在存儲器領域的發(fā)展再次火熱起來,其中最引人關注的是合肥方面的動作。據(jù)稱,合肥相關方面投資的合肥長鑫公司將投入約500億元,在合肥打造月產(chǎn)能12.5萬片的12英寸晶圓廠晶圓生產(chǎn)線。另有消息稱,北京兆易創(chuàng)新也將加入該項計劃。盡管事后兆易創(chuàng)新發(fā)布澄清說明,稱目前僅處于初期接觸階段。但這些信息也說明了合肥正在盡力形成一個存儲器產(chǎn)業(yè)的發(fā)展聚集地。
另外,中國其他兩個存儲力量的動作也不小。紫光集團/長江存儲董事長趙偉國日前透露,由紫光參與投資總額達240億美元的武漢存儲器芯片基地不久即將開工,預計2018年建設完成,月產(chǎn)能約20萬片,到2020年基地總產(chǎn)能將達30萬片/月、2030年達到100萬片/月,成為世界級存儲器生產(chǎn)基地。
福建晉華集成則與聯(lián)電簽訂技術合作協(xié)定,由聯(lián)電協(xié)助其生產(chǎn)利基型DRAM。目前新建的12英寸廠房已經(jīng)動工,初步產(chǎn)能規(guī)劃每月6萬片,估計2017年年底完成技術開發(fā),2018年9月試產(chǎn)。
存儲器國產(chǎn)替代已經(jīng)成型。長期以來,我國存儲市場幾乎被 EMC、戴爾、IBM、日立、富士通等外資品牌所壟斷。但隨著國內(nèi)廠商存儲器技術的逐漸成熟,外資品牌的技術壁壘被打破,國產(chǎn)品牌開始迅速壯大。目前我國外部存儲器市場上國產(chǎn)品牌已經(jīng)占據(jù)約 60%的市場份額。其中,華為目前排名第一,市場占有率約為20%,Dell EMC 排名第二,市占率 14%,第三到六名分別是海康威視、IBM、曙光和浪潮。除此之外,主要的國內(nèi)廠商還包括:大華股份、同有科技、宇視科技、宏杉科技、聯(lián)想、神州數(shù)碼網(wǎng)絡和中興。
專利與人才是重要挑戰(zhàn)
盡管中國大陸在發(fā)展存儲器產(chǎn)業(yè)的道路上已經(jīng)邁出第一步,然而未來的前景尚不好預測。首先,在市場方面,根據(jù)最新的DRAMeXchange數(shù)據(jù),受到智能手機加載內(nèi)存容量需不斷增長的影響,第三季度移動式內(nèi)存總產(chǎn)值達45.88億美元,季增16.8%。DRAMeXchange研究協(xié)理吳雅婷預計今年第四季度移動式內(nèi)存在DRAM總營收占比中仍將持續(xù)擴大。
在NAND閃存方面,同樣受到智能手機需求影響,第三季度NAND閃存開始漲價,使得NAND廠商營收季度增長19.6%,營業(yè)利潤率環(huán)比大幅增加。DRAMeXchange研究協(xié)理楊文得表示,第四季度各類電子終端設備的出貨量將進入年度高峰期,預估整體NAND閃存將呈供不應求的狀況,NAND閃存的合約價格漲幅將會更高。也就是說,受移動市場的帶動,內(nèi)存市場有望在較長時間內(nèi)保持旺盛需求。而未來在云計算大數(shù)據(jù)的驅(qū)動下,數(shù)據(jù)中心建設發(fā)展方興未艾,對存儲器的需求將會持續(xù)增加。這對中國存儲產(chǎn)業(yè)的發(fā)展是一個利好。
存儲器芯片領域,主要分為兩類:易失性和非易失性。易失性:斷電以后,存儲器內(nèi)的信息就流失了,例如 DRAM,電腦中的內(nèi)存條。非易失性:斷電以后,存儲器內(nèi)的信息仍然存在,主要是閃存(Nand FLASH 和 NOR FLASH),NOR 主要應用于代碼存儲介質(zhì)中,而 NAND 則用于數(shù)據(jù)存儲。在整個存儲器芯片里面,主要有的三種產(chǎn)品是:DRAM、NOR FLASH 和 Nand FLASH。
2016年第一季度 Nand FLASH 市場結構
DRAM市場上主要由三星、海力士和美光三大巨頭壟斷,占比達到 90%以上。從 Nand FLASH 市場來講,2016 年第一季度,三星占了 35.1%,所占市場份額很大。整個存儲器芯片里面,三星所占市場份額是最大的,目前在市場上主導地位的是閃存(flash memory)。當工藝線寬小于 16nm 的時候,傳統(tǒng)閃存面臨著一定的物理極限。主要的問題:1、可靠性問題。工藝線寬尺寸小于 16nm 時,厚度逐漸下降,可靠性存在問題,可靠性限制了存儲器單層的厚度。2、當然那還有構造問題。3、擦寫速度慢。4、有效的擦寫次數(shù)。
傳統(tǒng)閃存繼續(xù)發(fā)展面臨的技術瓶頸
三星
2008年基于90nm工藝制備512Mb相變存儲器芯片; 2011年基于58nm工藝制備1Gb相變存儲器芯片;2012 年基于 20nm 工藝制備 8Gb 相變存儲器芯片;2014 年發(fā)布相變存儲器的產(chǎn)業(yè)報告。
三星在相變存儲器領域的布局
美光
2009 年基于 45nm 工藝制備1Gb 相變存儲器芯片; 2011 年發(fā)布第一款基于相變存儲器的 SSD;2013 年基于 45nm 工藝 1Gb 相變存儲器芯片實現(xiàn)量產(chǎn);2015 年聯(lián)合 Intel發(fā)布 3D Xpoint。
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近來,中國大陸在存儲器領域的發(fā)展再次火熱起來,其中最引人關注的是合肥方面的動作。據(jù)稱,合肥相關方面投資的合肥長鑫公司將投入約500億元,在合肥打造月產(chǎn)能12.5萬片的12英寸晶圓廠晶圓生產(chǎn)線。另有消息稱,北京兆易創(chuàng)新也將加入該項計劃。盡管事后兆易創(chuàng)新發(fā)布澄清說明,稱目前僅處于初期接觸階段。但這些信息也說明了合肥正在盡力形成一個存儲器產(chǎn)業(yè)的發(fā)展聚集地。
另外,中國其他兩個存儲力量的動作也不小。紫光集團/長江存儲董事長趙偉國日前透露,由紫光參與投資總額達240億美元的武漢存儲器芯片基地不久即將開工,預計2018年建設完成,月產(chǎn)能約20萬片,到2020年基地總產(chǎn)能將達30萬片/月、2030年達到100萬片/月,成為世界級存儲器生產(chǎn)基地。
福建晉華集成則與聯(lián)電簽訂技術合作協(xié)定,由聯(lián)電協(xié)助其生產(chǎn)利基型DRAM。目前新建的12英寸廠房已經(jīng)動工,初步產(chǎn)能規(guī)劃每月6萬片,估計2017年年底完成技術開發(fā),2018年9月試產(chǎn)。
存儲器國產(chǎn)替代已經(jīng)成型。長期以來,我國存儲市場幾乎被 EMC、戴爾、IBM、日立、富士通等外資品牌所壟斷。但隨著國內(nèi)廠商存儲器技術的逐漸成熟,外資品牌的技術壁壘被打破,國產(chǎn)品牌開始迅速壯大。目前我國外部存儲器市場上國產(chǎn)品牌已經(jīng)占據(jù)約 60%的市場份額。其中,華為目前排名第一,市場占有率約為20%,Dell EMC 排名第二,市占率 14%,第三到六名分別是海康威視、IBM、曙光和浪潮。除此之外,主要的國內(nèi)廠商還包括:大華股份、同有科技、宇視科技、宏杉科技、聯(lián)想、神州數(shù)碼網(wǎng)絡和中興。
專利與人才是重要挑戰(zhàn)
盡管中國大陸在發(fā)展存儲器產(chǎn)業(yè)的道路上已經(jīng)邁出第一步,然而未來的前景尚不好預測。首先,在市場方面,根據(jù)最新的DRAMeXchange數(shù)據(jù),受到智能手機加載內(nèi)存容量需不斷增長的影響,第三季度移動式內(nèi)存總產(chǎn)值達45.88億美元,季增16.8%。DRAMeXchange研究協(xié)理吳雅婷預計今年第四季度移動式內(nèi)存在DRAM總營收占比中仍將持續(xù)擴大。
在NAND閃存方面,同樣受到智能手機需求影響,第三季度NAND閃存開始漲價,使得NAND廠商營收季度增長19.6%,營業(yè)利潤率環(huán)比大幅增加。DRAMeXchange研究協(xié)理楊文得表示,第四季度各類電子終端設備的出貨量將進入年度高峰期,預估整體NAND閃存將呈供不應求的狀況,NAND閃存的合約價格漲幅將會更高。也就是說,受移動市場的帶動,內(nèi)存市場有望在較長時間內(nèi)保持旺盛需求。而未來在云計算大數(shù)據(jù)的驅(qū)動下,數(shù)據(jù)中心建設發(fā)展方興未艾,對存儲器的需求將會持續(xù)增加。這對中國存儲產(chǎn)業(yè)的發(fā)展是一個利好。
存儲器芯片領域,主要分為兩類:易失性和非易失性。易失性:斷電以后,存儲器內(nèi)的信息就流失了,例如 DRAM,電腦中的內(nèi)存條。非易失性:斷電以后,存儲器內(nèi)的信息仍然存在,主要是閃存(Nand FLASH 和 NOR FLASH),NOR 主要應用于代碼存儲介質(zhì)中,而 NAND 則用于數(shù)據(jù)存儲。在整個存儲器芯片里面,主要有的三種產(chǎn)品是:DRAM、NOR FLASH 和 Nand FLASH。
2016年第一季度 Nand FLASH 市場結構
DRAM市場上主要由三星、海力士和美光三大巨頭壟斷,占比達到 90%以上。從 Nand FLASH 市場來講,2016 年第一季度,三星占了 35.1%,所占市場份額很大。整個存儲器芯片里面,三星所占市場份額是最大的,目前在市場上主導地位的是閃存(flash memory)。當工藝線寬小于 16nm 的時候,傳統(tǒng)閃存面臨著一定的物理極限。主要的問題:1、可靠性問題。工藝線寬尺寸小于 16nm 時,厚度逐漸下降,可靠性存在問題,可靠性限制了存儲器單層的厚度。2、當然那還有構造問題。3、擦寫速度慢。4、有效的擦寫次數(shù)。
傳統(tǒng)閃存繼續(xù)發(fā)展面臨的技術瓶頸
三星
2008年基于90nm工藝制備512Mb相變存儲器芯片; 2011年基于58nm工藝制備1Gb相變存儲器芯片;2012 年基于 20nm 工藝制備 8Gb 相變存儲器芯片;2014 年發(fā)布相變存儲器的產(chǎn)業(yè)報告。
三星在相變存儲器領域的布局
美光
2009 年基于 45nm 工藝制備1Gb 相變存儲器芯片; 2011 年發(fā)布第一款基于相變存儲器的 SSD;2013 年基于 45nm 工藝 1Gb 相變存儲器芯片實現(xiàn)量產(chǎn);2015 年聯(lián)合 Intel發(fā)布 3D Xpoint。
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