光刻膠的黏附性描述了光刻膠黏著于襯底的強(qiáng)度
發(fā)布時(shí)間:2017/5/26 20:45:48 訪問(wèn)次數(shù):1473
光刻膠的黏附性描述了光刻膠黏著于襯底的強(qiáng)度。光刻膠必須黏附于許多不同類型的表面,包括硅、多晶硅、二氧化硅(摻雜的和未摻雜的)、氮化硅和不同的金屬。光刻膠SBJ100505T-121Y-N黏附性的不足會(huì)導(dǎo)致硅片表面上的圖形變形。光刻膠的黏附性必須保證光刻膠經(jīng)受住曝光、顯影和后續(xù)的工藝(如刻蝕和離子注人)條件。
光刻膠的膨脹
在顯影過(guò)程中,如果顯影液滲透到光刻膠中,光刻膠的體積就會(huì)膨脹,這將導(dǎo)致圖形尺寸發(fā)生變化。這種膨脹現(xiàn)象主要發(fā)生在負(fù)膠中。由于負(fù)膠存在膨脹現(xiàn)象,對(duì)于光刻小于3um圖形的情況,基本使用正膠來(lái)代替負(fù)膠。正膠的分子量通常都比較低,在顯影液中的溶解機(jī)制與負(fù)膠不同,所以正膠幾乎不會(huì)發(fā)生膨脹.
因?yàn)檎z不膨脹.分辨率就高于負(fù)膠。另外,減小光刻膠的厚度有助于提高分辨率。因此使用較厚的正膠可以得到與使用較薄的負(fù)膠相同的分辨率。在相同的分辨率F,與負(fù)膠相比可以使用較厚的正膠,從而得到更好的平臺(tái)覆蓋并能降低缺陷的產(chǎn)生,同時(shí)抗干法刻蝕的能力也更強(qiáng)。
光刻膠的黏附性描述了光刻膠黏著于襯底的強(qiáng)度。光刻膠必須黏附于許多不同類型的表面,包括硅、多晶硅、二氧化硅(摻雜的和未摻雜的)、氮化硅和不同的金屬。光刻膠SBJ100505T-121Y-N黏附性的不足會(huì)導(dǎo)致硅片表面上的圖形變形。光刻膠的黏附性必須保證光刻膠經(jīng)受住曝光、顯影和后續(xù)的工藝(如刻蝕和離子注人)條件。
光刻膠的膨脹
在顯影過(guò)程中,如果顯影液滲透到光刻膠中,光刻膠的體積就會(huì)膨脹,這將導(dǎo)致圖形尺寸發(fā)生變化。這種膨脹現(xiàn)象主要發(fā)生在負(fù)膠中。由于負(fù)膠存在膨脹現(xiàn)象,對(duì)于光刻小于3um圖形的情況,基本使用正膠來(lái)代替負(fù)膠。正膠的分子量通常都比較低,在顯影液中的溶解機(jī)制與負(fù)膠不同,所以正膠幾乎不會(huì)發(fā)生膨脹.
因?yàn)檎z不膨脹.分辨率就高于負(fù)膠。另外,減小光刻膠的厚度有助于提高分辨率。因此使用較厚的正膠可以得到與使用較薄的負(fù)膠相同的分辨率。在相同的分辨率F,與負(fù)膠相比可以使用較厚的正膠,從而得到更好的平臺(tái)覆蓋并能降低缺陷的產(chǎn)生,同時(shí)抗干法刻蝕的能力也更強(qiáng)。
上一篇：光刻膠的特征量
上一篇：微粒數(shù)量和金屬含量
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