浸沒式光刻
發(fā)布時間:2017/11/1 19:39:04 訪問次數(shù):1849
在空氣中,最大的數(shù)值孔徑為1.0.分辨率NA=1.o就是極限。早在19世紀末,人們OA1530-32-NOUT就發(fā)現(xiàn),如果在顯微鏡物鏡與生物樣品的蓋玻片上滴上一層油,顯微鏡的分辨率和對比度會大幅提高,其原理如圖7。108所示。浸沒式鏡頭由于同樣品之閘沒有經(jīng)過空氣,它能夠以更大的角度在光刻膠中成像,也就等效于更大的數(shù)值孔徑。
非浸沒式光刻屮 在光刻膠中 浸沒式光刻中,住光刻膠中光
光線最大的、高為093(248和193都有) 前最高為I35圖7108 浸沒式光刻能夠以更大的角度在光刻膠中成像 實踐證明,水浸沒式光刻機可以比非浸沒式的光刻機提高狃%的焦深(在193nm時水的折射率為1.44)或者狃%的分辨率。如一臺193nm的光刻機在0.93NA的情況下能做到的最小技術(shù)節(jié)點是55nm,但是一臺193nm的浸沒式光刻機在1.35NA的情況下可以做到32nm技術(shù)節(jié)點。
不過,浸沒式光刻也遇到一系列技術(shù)挑戰(zhàn),如缺陷,光刻膠表面光酸的浸析(leaching),換句話講光酸會受到浸沒式水的分子力而被從光刻膠中拉出來,一方面造成不完整顯影的缺陷,另一方面造成鏡頭表面的腐蝕。又如由于水在硅片表面的蒸發(fā),影響硅片的套刻精度。不過,這些問題都已經(jīng)得到較好的解決,現(xiàn)在由于浸沒式造成的缺陷已經(jīng)降到10~⒛顆/硅片。甚至有些好的光刻機,缺陷率降到5顆/硅片。不過,在浸沒式光刻中,偏振照明已經(jīng)變得不可或缺。用得最多的是ⅪY照明條件和單一Y或者X方向的偏振態(tài)。
在空氣中,最大的數(shù)值孔徑為1.0.分辨率NA=1.o就是極限。早在19世紀末,人們OA1530-32-NOUT就發(fā)現(xiàn),如果在顯微鏡物鏡與生物樣品的蓋玻片上滴上一層油,顯微鏡的分辨率和對比度會大幅提高,其原理如圖7。108所示。浸沒式鏡頭由于同樣品之閘沒有經(jīng)過空氣,它能夠以更大的角度在光刻膠中成像,也就等效于更大的數(shù)值孔徑。
非浸沒式光刻屮 在光刻膠中 浸沒式光刻中,住光刻膠中光
光線最大的、高為093(248和193都有) 前最高為I35圖7108 浸沒式光刻能夠以更大的角度在光刻膠中成像 實踐證明,水浸沒式光刻機可以比非浸沒式的光刻機提高狃%的焦深(在193nm時水的折射率為1.44)或者狃%的分辨率。如一臺193nm的光刻機在0.93NA的情況下能做到的最小技術(shù)節(jié)點是55nm,但是一臺193nm的浸沒式光刻機在1.35NA的情況下可以做到32nm技術(shù)節(jié)點。
不過,浸沒式光刻也遇到一系列技術(shù)挑戰(zhàn),如缺陷,光刻膠表面光酸的浸析(leaching),換句話講光酸會受到浸沒式水的分子力而被從光刻膠中拉出來,一方面造成不完整顯影的缺陷,另一方面造成鏡頭表面的腐蝕。又如由于水在硅片表面的蒸發(fā),影響硅片的套刻精度。不過,這些問題都已經(jīng)得到較好的解決,現(xiàn)在由于浸沒式造成的缺陷已經(jīng)降到10~⒛顆/硅片。甚至有些好的光刻機,缺陷率降到5顆/硅片。不過,在浸沒式光刻中,偏振照明已經(jīng)變得不可或缺。用得最多的是ⅪY照明條件和單一Y或者X方向的偏振態(tài)。
上一篇:三種二重圖形技術(shù)的優(yōu)點和缺點對比
上一篇:極紫外光刻
熱門點擊
- 種子層
- 輸出端不允許直接接地或直接接+5V電源
- 具有(110)晶面取向的襯底比具有(100)
- 離軸照明
- 等效柵氧厚度的微縮
- RCdelay對器件運算速度的影響
- 常用的焊錫種類有哪些?
- 最后才用磷酸將氮化硅一次性去除
- 浸沒式光刻
- TIN制程
推薦技術(shù)資料
- 全新高端射頻儀器
- 集成32位RISC-V處理器&
- 第三代半導(dǎo)體和圖像傳感器 參數(shù)封裝應(yīng)用
- 汽車半導(dǎo)體
- 人形機器人技術(shù)結(jié)構(gòu)設(shè)計及發(fā)展分
- 紫光芯片云3.0整體解決方案
- 多媒體協(xié)處理器SM501在嵌入式系統(tǒng)中的應(yīng)用
- 基于IEEE802.11b的EPA溫度變送器
- QUICCEngine新引擎推動IP網(wǎng)絡(luò)革新
- SoC面世八年后的產(chǎn)業(yè)機遇
- MPC8xx系列處理器的嵌入式系統(tǒng)電源設(shè)計
- dsPIC及其在交流變頻調(diào)速中的應(yīng)用研究