涂光刻膠（旋轉(zhuǎn)式）
發(fā)布時(shí)間:2015/10/31 19:09:19 訪問(wèn)次數(shù):1280
涂膠工藝的目的就是在晶圓表面建立薄的、EL4583CSZ均勻的并且沒(méi)有缺陷的光刻膠膜。
這些好的質(zhì)量說(shuō)起來(lái)容易，卻需要用精良設(shè)備和嚴(yán)格的工藝控制才能達(dá)到。一般來(lái)說(shuō)，光刻膠膜厚從0.5~1.5斗m不等，而且它的均勻性必須要達(dá)到只有±0.01 ht,m(100 A)的誤差。
普通的光刻膠涂膠方法有3種方法：刷法、滾轉(zhuǎn)方法和浸泡法。但是這3種方法中沒(méi)有一種能夠達(dá)到光刻膠工藝所要求的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。在涂底膠的那一節(jié)中，我們簡(jiǎn)單地介紹旋轉(zhuǎn)涂膠方法，這也就是我們普遍應(yīng)用的涂膠方法。涂膠器有手動(dòng)式、半自動(dòng)式和全自動(dòng)式。自動(dòng)化程度不同，所應(yīng)用的系統(tǒng)也會(huì)不同。在下文我們會(huì)有所介紹。然而，每個(gè)系統(tǒng)光刻膠膜的淀積確實(shí)是共同的。
涂膠工藝被設(shè)計(jì)成防止或是降低晶圓外邊緣部分光刻膠的堆起，也稱為邊緣珠子( edgebead)，這神堆起會(huì)在曝光和刻蝕過(guò)程中造成圖形的畸變。
涂膠工藝的目的就是在晶圓表面建立薄的、EL4583CSZ均勻的并且沒(méi)有缺陷的光刻膠膜。
這些好的質(zhì)量說(shuō)起來(lái)容易，卻需要用精良設(shè)備和嚴(yán)格的工藝控制才能達(dá)到。一般來(lái)說(shuō)，光刻膠膜厚從0.5~1.5斗m不等，而且它的均勻性必須要達(dá)到只有±0.01 ht,m(100 A)的誤差。
普通的光刻膠涂膠方法有3種方法：刷法、滾轉(zhuǎn)方法和浸泡法。但是這3種方法中沒(méi)有一種能夠達(dá)到光刻膠工藝所要求的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。在涂底膠的那一節(jié)中，我們簡(jiǎn)單地介紹旋轉(zhuǎn)涂膠方法，這也就是我們普遍應(yīng)用的涂膠方法。涂膠器有手動(dòng)式、半自動(dòng)式和全自動(dòng)式。自動(dòng)化程度不同，所應(yīng)用的系統(tǒng)也會(huì)不同。在下文我們會(huì)有所介紹。然而，每個(gè)系統(tǒng)光刻膠膜的淀積確實(shí)是共同的。
涂膠工藝被設(shè)計(jì)成防止或是降低晶圓外邊緣部分光刻膠的堆起，也稱為邊緣珠子( edgebead)，這神堆起會(huì)在曝光和刻蝕過(guò)程中造成圖形的畸變。
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相關(guān)技術(shù)資料- 10-31涂光刻膠（旋轉(zhuǎn)式）
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