膜厚不均勻。精度要TC54VC4202求不高時,厚度測量可用比色法、磨蝕法;精度要求高時,可用雙光干涉法、電容一電壓法、橢偏光法。

   S⒑2膜層的表面顏色一致,則說明膜厚均勻;若顏色有較明顯的變化,則說明膜厚不均。⒏o膜的厚度不均勻會影響其雜質掩蔽的功能,絕緣性變差,而且在光刻腐蝕時容易造成局部沾污等。氧化爐內的氧氣或水汽不均勻、爐溫變化不定以及恒溫區(qū)太短等都是造成膜厚不均勻的原因。想得到厚度均勻的氧化層,則要求氧化前做好硅片的處理,保證清洗質量和硅片表面質量,嚴格控制爐溫,控制好水浴溫度,必須有長且穩(wěn)定的恒溫區(qū),對氧化氣體的流量也要嚴格控制。

   表面質量:要求薄膜表面無斑點、裂紋、白霧、發(fā)花和針孔等缺陷。通常通過在聚光燈下目測或者鏡檢發(fā)現(xiàn)各種缺陷。表面斑點。斑點一般用肉眼無法看到,要通過顯微鏡觀察。產生表面斑點的原因一般有:晶圓表面清洗不徹底,殘留了一些雜質顆粒,這些雜質在高溫下黏附在s⒑2膜的表面形成斑點:石英管在高溫下工作時間過長,脫落的顆粒落在晶圓表面,出現(xiàn)斑點:晶圓清洗后水跡耒干、濕氧過程中有水滴落在晶圓上,都會使s⒑2膜的表面出現(xiàn)斑點。為了避免斑點的出現(xiàn),要仔細清潔晶圓表面,清洗石英管,嚴格控制水溫以及氧氣的流量。