清洗工藝多由一系列的步驟組成,用來將大小不一的顆粒同時(shí)除去。最簡(jiǎn)單OP262GS-REEL的顆粒去除工藝是用位于清洗臺(tái)的手持氮?dú)鈽寚姵龅慕?jīng)過過濾的高壓氮?dú)獯稻A的表面。在存在小顆粒問題的制造區(qū)域,氮?dú)鈽屔吓渲昧穗x子化器,除去氮?dú)饬髦械撵o電,而使晶圓表面呈中性。

   氮?dú)獯禈屖鞘殖值?操作員在使用它的時(shí)候必須注意不要污染操作臺(tái)上的其他晶圓或操作臺(tái)本身。通常在潔凈等級(jí)為l/10的潔凈室中,不使用吹槍。晶圓外延生長(zhǎng)對(duì)于晶圓清潔程度的嚴(yán)格要求導(dǎo)致了機(jī)械的晶圓表面洗刷器的發(fā)展。同時(shí)這一方法也被用在非常關(guān)鍵的顆粒去除中。

   刷洗器將晶圓承載在旋轉(zhuǎn)的真空吸盤上,如圖3.9所示。在一般去離子水直接沖洗晶圓表面的同時(shí),旋轉(zhuǎn)的刷子近距離地接觸旋轉(zhuǎn)的晶圓。刷子和晶圓旋轉(zhuǎn)的結(jié)合在晶圓表面產(chǎn)生了高能量的清洗動(dòng)作。液體被迫進(jìn)入晶圓表面和刷子末端之間極小的空間,從而達(dá)到很大的速度,以輔助清洗。必須注意的是,要保持刷子和清洗液道路的清潔以防止第二污染。另外,刷子到晶圓要保持一定的距離,以防止在晶圓表面造成劃痕。

   在去離子水中加入表面活性劑可以提高清洗的效果,同時(shí)防止靜電的形成。在某些應(yīng)用中,稀釋的NH40H被用做清洗液以防止在刷子上形成顆粒,同時(shí) 控制系統(tǒng)中的Z-電勢(shì)。刷洗器可以設(shè)計(jì)為有自動(dòng)上/下料功能的獨(dú)立操作單位,也可以設(shè)計(jì)為其他設(shè)備的一部分,在工藝過程前自動(dòng)執(zhí)行對(duì)晶圓的清洗。