掩模板就是將設計好的特定幾何圖形通過一定的方法以一定的間距和布局做在基板上,供光刻HAT3037R-EL-E工藝中重復使用。制造商將設計工程師交付的標準制版數據傳送給一個稱為圖形發(fā)生器的設備,圖形發(fā)生器會根據該數據完成圖形的產生和重復,并將版圖數據分層轉移到各層光刻掩模板(為涂有感光材料的優(yōu)質玻璃板)上,這就是制版。每層版圖對應于不同的光刻掩模板,并對應于不同的工藝步驟。實際光刻版的照片如圖101所示。

   光刻掩模板質量的優(yōu)劣直接影響光刻圖形的質量。在芯片制造過程中需要經過十幾乃至幾十次的光刻,每次光刻都需要一塊光刻掩模板,每塊光刻掩模板的質量都會影響光刻的質量。因此要有高的成品率,就必須制作出高質量的光刻掩模板。

   結構簡單的微電子器件,一般可以采用手工方法和光學照相技術制版。隨著超大規(guī)模集成電路線條尺寸的不斷縮小以及結構的日益復雜,集成電路等復雜結構的掩模板都采用自動方式和電子束技術進行制版。